[發明專利]偏光膜的制造方法及偏光膜

在審

• 申請號: 201880069705.5
• 申請日: 2018-10-16
• 公開（公告）號: CN111279232A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 幡中伸行;村野耕太
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;B05D1/36;B05D5/06;B05D7/00;B05D7/24
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;唐崢

1.偏光膜的制造方法，其具有下述工序：

準備工序，準備在基材層的至少一面側具有包含二色性色素的偏光層的層疊膜；

保護層層疊工序，通過在所述層疊膜的所述偏光層上層疊具有用于被覆所述偏光層的被覆區域和用于使所述偏光層露出的露出區域的保護層，從而得到帶有保護層的層疊膜；

溶解液接觸工序，通過使所述帶有保護層的層疊膜與能將所述偏光層溶解的溶解液接觸，從而得到具有將所述偏光層的一部分區域除去而形成的圖案化偏光層的帶有圖案化偏光層的膜；和

剝離工序，將所述保護層從所述帶有圖案化偏光層的膜剝離。

2.如權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中，所述準備工序具有下述工序：

取向層形成工序，在所述基材層的一面側涂布取向層形成用組合物，從而形成取向層；和

偏光層形成工序，在所述基材層的形成了所述取向層的這側的面上，涂布包含液晶化合物及所述二色性色素的偏光層形成用組合物，從而形成所述偏光層。

3.如權利要求2所述的偏光膜的制造方法，其中，所述取向層形成用組合物包含光取向性聚合物，

所述取向層形成工序中，對涂布所述取向層形成用組合物而形成的取向層用涂布層進行偏振光照射，從而形成所述取向層。

4.如權利要求2或3所述的偏光膜的制造方法，其中，所述偏光層為聚合性液晶化合物進行了取向的層，

所述偏光層形成工序中，對涂布所述偏光層形成用組合物而形成的偏光層用涂布層進行活性能量射線照射，從而形成所述偏光層。

5.如權利要求2～4中任一項所述的偏光膜的制造方法，其中，所述偏光層在X射線衍射測定中顯示出布拉格峰。

6.如權利要求1～5中任一項所述的偏光膜的制造方法，其中，所述露出區域的俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多邊形，

所述露出區域為圓形的情況下的直徑為5cm以下，

所述露出區域為橢圓形或長圓形的情況下的長徑為5cm以下，

所述露出區域為多邊形的情況下，以內切所述多邊形的方式繪制的假想圓的直徑為5cm以下。

7.如權利要求1～6中任一項所述的偏光膜的制造方法，其中，所述偏光膜的長度為10m以上。

8.如權利要求1～7中任一項所述的偏光膜的制造方法，其中，所述基材層具有1/4波長板功能。

9.圓偏光板的制造方法，其具有下述工序：

相位差層層疊工序，將利用權利要求1～7中任一項所述的偏光膜的制造方法制造的偏光膜、與具有1/4波長板功能的相位差層層疊。

10.如權利要求9所述的圓偏光板的制造方法，其中，所述偏光膜是長度為10m以上的長條狀偏光膜，

所述相位差層是長度為10m以上的長條狀相位差層，

所述相位差層層疊工序中，通過將所述長條狀偏光膜與所述長條狀相位差層層疊，從而形成長條狀層疊體，

所述制造方法還具有：裁切工序，將所述長條狀層疊體裁切成單片。

11.偏光膜，其是具有偏光區域和低偏光區域的偏光膜，所述低偏光區域具有低于偏光區域的可見度校正偏光度，

所述偏光區域包含液晶化合物及二色性色素，并且，可見度校正偏光度為90％以上，

所述低偏光區域不含有液晶化合物及二色性色素，

所述低偏光區域的俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多邊形，

所述低偏光區域為圓形的情況下的直徑為5cm以下，

所述低偏光區域為橢圓形或長圓形的情況下的長徑為5cm以下，

所述低偏光區域為多邊形的情況下，以內切所述多邊形的方式繪制的假想圓的直徑為5cm以下。

12.如權利要求11所述的偏光膜，其中，所述低偏光區域的可見度校正偏光度為10％以下。