[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880069567.0 | 申請日: | 2018-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN111279793A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 宮永昭治;伊藤哲二;渡邊真由子 | 申請(專利權(quán))人: | NS材料株式會社 |
| 主分類號: | H05B33/14 | 分類號: | H05B33/14;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/26 |
| 代理公司: | 北京瑞盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11300 | 代理人: | 劉昕;孟祥海 |
| 地址: | 日本國福岡縣*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
本發(fā)明的目的在于提供一種含有量子點的顯示裝置。本發(fā)明為一種具備顯示區(qū)域的顯示裝置(1),其特征在于,所述顯示區(qū)域具有第一電極(11)、所述第一電極與發(fā)光層之間的層(12)、所述發(fā)光層(13)、所述發(fā)光層與第二電極之間的層(14)以及所述第二電極(15)按照該順序?qū)盈B在基板上的發(fā)光元件,所述發(fā)光層由含有量子點的無機(jī)層形成,所述發(fā)光元件為底部發(fā)光型。在本發(fā)明中,優(yōu)選,自所述第一電極至所述第二電極的所有的層由無機(jī)層形成。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種使用量子點的顯示裝置。
背景技術(shù)
在下述的專利文獻(xiàn)中公開有一種涉及有機(jī)EL(organic electro-luminescence)的發(fā)明。
通過在基板上層疊陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極而構(gòu)成有機(jī)EL元件。這種有機(jī)EL元件由有機(jī)化合物形成,通過注入到有機(jī)化合物中的電子與空穴的再復(fù)合而產(chǎn)生的激子發(fā)光。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2017-45650號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
但是近幾年,使用量子點的發(fā)光元件的開發(fā)正在推進(jìn)。量子點為由數(shù)百~數(shù)千個左右的原子構(gòu)成、粒徑為數(shù)nm~數(shù)十nm左右的納米粒子。量子點也被稱作熒光納米粒子、半導(dǎo)體納米粒子或者納米晶體。量子點具有利用納米粒子的粒徑和組成而能夠?qū)Πl(fā)光波長進(jìn)行各種變更的特征。與有機(jī)EL元件同樣,使用量子點的發(fā)光元件能夠?qū)崿F(xiàn)薄型化和面發(fā)光。
但是,底部發(fā)光型中使用量子點的發(fā)光元件的層疊構(gòu)造還未確立。
本發(fā)明正是鑒于該點而作出的發(fā)明,其目的在于提供一種具備含有量子點的發(fā)光元件的顯示裝置。
用于解決課題的方案
本發(fā)明為一種具備顯示區(qū)域的顯示裝置,其特征在于,所述顯示區(qū)域具有第一電極、所述第一電極與發(fā)光層之間的層、所述發(fā)光層、所述發(fā)光層與第二電極之間的層以及所述第二電極按照該順序?qū)盈B在基板上的發(fā)光元件,所述發(fā)光層由含有量子點的無機(jī)層形成,所述發(fā)光元件為底部發(fā)光型。
在本發(fā)明中,優(yōu)選,自所述第一電極至所述第二電極的所有的層由無機(jī)層形成。
在本發(fā)明中,優(yōu)選,所述第一電極與發(fā)光層之間的層、所述發(fā)光層以及所述發(fā)光層與第二電極之間的層為由納米粒子形成的所述無機(jī)層。
而且,在本發(fā)明中,優(yōu)選,所述顯示裝置具有可撓性。
而且,在本發(fā)明中,優(yōu)選,所述量子點為核的表面未被殼包覆的結(jié)構(gòu)。
而且,在本發(fā)明中,優(yōu)選,所述第一電極與發(fā)光層之間的層、所述發(fā)光層以及所述發(fā)光層與第二電極之間的層中的至少任一層利用噴墨法形成。
而且,在本發(fā)明中,優(yōu)選,位于所述第一電極與所述第二電極之間的所有的層通過涂布形成。
發(fā)明的效果
本發(fā)明的顯示裝置能夠使用于顯示裝置中的含有量子點的發(fā)光元件的層疊構(gòu)造合理化。而且,在本發(fā)明中,可以由無機(jī)層形成自陽極至陰極的所有的層。
附圖說明
圖1為本實施方式的顯示裝置的局部俯視圖。
圖2為放大表示圖1所示的顯示裝置一個顯示區(qū)域的局部放大剖面圖。
圖3為用于表示與圖2不同的薄膜晶體管構(gòu)造的剖面圖。
圖4中的圖4A為第一實施方式中的發(fā)光元件的剖面圖,圖4B為第一實施方式的顯示裝置中各層的能級圖。
圖5為本實施方式中的量子點的示意圖。
圖6為與圖1不同的實施方式的發(fā)光元件的剖面圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于NS材料株式會社,未經(jīng)NS材料株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880069567.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:肖特基勢壘二極管
- 下一篇:醫(yī)療圖像處理裝置





