[發(fā)明專利]納米粉末、納米陶瓷材料及其制造與使用方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880069409.5 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN111344265A | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 詹國棟;鄔笑煒;賀小明;J·Y·孫 | 申請(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號: | C04B35/628 | 分類號: | C04B35/628;B82Y30/00;B82Y40/00;C04B35/505;C04B35/553;C23C16/40;C23C16/50 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 汪駿飛;侯穎媖 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 粉末 陶瓷材料 及其 制造 使用方法 | ||
1.一種包含多個(gè)納米粒子的納米粉末,其中所述多個(gè)納米粒子的至少一部分包含:
核心粒子,所述核心粒子包含第一材料,所述第一材料選自由含稀土金屬氧化物、含稀土金屬氟化物、含稀土金屬氟氧化物及其組合所構(gòu)成的群組;以及
薄膜涂層,所述薄膜涂層覆蓋所述核心粒子,所述薄膜涂層包含第二材料,所述第二材料選自由含稀土金屬氧化物、含稀土金屬氟化物、含稀土金屬氟氧化物及其組合所構(gòu)成的群組。
2.如權(quán)利要求1所述的納米粉末,其中所述薄膜涂層具有約1g/cm3至約10g/cm3的密度。
3.如權(quán)利要求1所述的納米粉末,其中所述薄膜涂層具有約1nm至約500nm的厚度。
4.如權(quán)利要求1所述的納米粉末,其中所述核心粒子的尺寸是從約5nm至約100nm。
5.一種方法,包含:
執(zhí)行原子層沉積以形成多個(gè)納米粒子,包含形成覆蓋核心粒子的薄膜涂層,
其中所述核心粒子包含第一材料,所述第一材料選自由含稀土金屬氧化物、含稀土金屬氟化物、含稀土金屬氟氧化物及其組合所構(gòu)成的群組;并且
其中所述薄膜涂層包含第二材料,所述第二材料選自由含稀土金屬氧化物、含稀土金屬氟化物、含稀土金屬氟氧化物及其組合所構(gòu)成的群組。
6.如權(quán)利要求1所述的物件或如權(quán)利要求5所述的方法,其中所述第一材料與所述第二材料中的每一個(gè)獨(dú)立地選自由氧化釔(Y2O3)、氟化釔(YF3)、氟氧化釔(YxOyFz)、氧化鉺(Er2O3)、氟化鉺(ErF3)、氟氧化鉺(ErxOyFz)、氧化鏑(Dy2O3)、氟化鏑(DyF3)、氟氧化鏑(DyxOyFz)、氧化釓(Gd2O3)、氟化釓(GdF3)、氟氧化釓(GdxOyFz)、氧化鈧(Sc2O3)、氟化鈧(ScF3)、氟氧化鈧(ScxOyFz)及其組合所構(gòu)成的群組。
7.如權(quán)利要求1所述的物件或如權(quán)利要求5所述的方法,其中所述多個(gè)納米粒子包含約60mol%至約70mol%的氧化釔和約30mol%至約40mol%的氧化鋯。
8.如權(quán)利要求1所述的物件或如權(quán)利要求5所述的方法,其中(a)所述核心粒子包含氧化釔并且所述薄膜涂層包含氧化鋯或(b)所述核心粒子包含氧化鋯并且所述薄膜涂層包含氧化釔。
9.如權(quán)利要求1所述的物件或如權(quán)利要求5所述的方法,其中所述多個(gè)納米粒子具有環(huán)狀外形(donut-shape),所述環(huán)狀外形包含在相對側(cè)上具有凹痕的球面形。
10.如權(quán)利要求5所述的方法,其中所述執(zhí)行包含:(a)將包含氧化釔的前驅(qū)物引入原子層沉積腔室以形成覆蓋氧化鋯納米粒子的所述薄膜涂層或(b)將包含氧化鋯的前驅(qū)物引入原子層沉積腔室以形成覆蓋氧化釔納米粒子的薄膜涂層。
11.如權(quán)利要求5所述的方法,進(jìn)一步包含形成用于使用納米粉末的離子輔助沉積濺射裝置的靶材,所述納米粉末包含所述多個(gè)納米粒子。
12.如權(quán)利要求5所述的方法,進(jìn)一步包含將所述多個(gè)納米粒子等離子體噴涂在物件上。
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