[發(fā)明專利]六氟丁二烯的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880068452.X | 申請日: | 2018-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN111247120A | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 高橋一博;大東祐子;伊與田淳平 | 申請(專利權)人: | 大金工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C07C17/386 | 分類號: | C07C17/386;C07C21/18;C07C21/20 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 丁二烯 制造 方法 | ||
本發(fā)明通過在提取溶劑存在下對含有六氟丁二烯和選自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1種的追加化合物的原料組合物進行提取蒸餾而降低上述追加化合物的濃度,得到高純度的六氟丁二烯。
技術領域
本發(fā)明涉及一種六氟丁二烯的制造方法。
背景技術
目前,為了高速化、省電化,對半導體器件進行了微細化和利用新型材料等研究。在半導體器件的微細加工中,碳氟化合物是合適的,其中六氟丁二烯(也稱為CF2=CFCF=CF2、1,1,2,3,4,4-六氟丁二烯等)作為用于形成半導體、液晶等的最先進的微細結構的蝕刻氣體受到了關注。
關于干蝕刻氣體,為了提高其成品率,雜質必須極少。作為通常用于干蝕刻的氣體的純度,例如可以使用純度99.99%(4N)、99.999%(5N)這樣的高純度的化合物。另一方面,作為六氟丁二烯的制造方法,例如已知有使相對應的鹵化物與金屬鋅反應的脫鹵化反應(例如參照專利文獻1)。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開昭62-26240號公報
發(fā)明內容
發(fā)明所要解決的技術問題
然而,在利用專利文獻1所記載的反應精制得到的六氟丁二烯中,作為追加化合物,例如含有八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯、七氟-2-丁烯等。
六氟丁二烯和上述的追加化合物在結構上類似,并且沸點相近。因此,難以利用通常的蒸餾法分離,要求得到高純度的六氟丁二烯的方法。
本發(fā)明是為了解決上述那樣的技術問題而完成的發(fā)明,其目的在于:提供一種得到高純度的六氟丁二烯的方法。
用于解決技術問題的技術方案
為了解決上述的技術問題,本發(fā)明的發(fā)明人進行了精心研究,作為結果,直至完成本發(fā)明。本發(fā)明包含以下的構成。
項1.一種六氟丁二烯的制造方法,其包括:在提取溶劑存在下,對含有六氟丁二烯和選自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1種的追加化合物的原料組合物進行提取蒸餾,從而降低上述追加化合物的濃度的工序。
項2.如項1所述的制造方法,其中,上述提取蒸餾所使用的提取溶劑為選自含氧烴和含鹵烴中的至少1種溶劑。
項3.一種分離六氟丁二烯和選自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1種的追加化合物的方法,其包括:
在提取溶劑存在下將含有六氟丁二烯和上述追加化合物的組合物供于提取蒸餾的工序。
項4.如項3所述的方法,其中,上述提取溶劑包含選自含氧烴和含鹵烴中的至少1種化合物。
項5.一種組合物,其是含有六氟丁二烯和選自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1種的追加化合物的組合物,將上述組合物總量設為100摩爾%時,上述追加化合物的含量小于0.1摩爾%。
項6.一種共沸組合物,其含有六氟丁二烯和選自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1種的追加化合物。
項7.如項5或6所述的組合物,其為蝕刻氣體、冷媒、傳熱介質、發(fā)泡劑或樹脂單體用組合物。
發(fā)明效果
利用本發(fā)明,能夠得到高純度的六氟丁二烯。
附圖說明
圖1表示進行本發(fā)明的分離方法(六氟丁二烯的制造方法)的裝置的一個例子。
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