[發明專利]光學膜和包括該光學膜的系統在審
| 申請號: | 201880068287.8 | 申請日: | 2018-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN111263903A | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發明(設計)人: | 尼拉杰·夏爾馬;堵光磊;約翰·A·惠特利;馬修·E·蘇澤;杰里米·O·斯萬森 | 申請(專利權)人: | 3M創新有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/26;G02B5/28 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 顧紅霞;張蕓 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 包括 系統 | ||
1.一種系統,所述系統包括:
光發射器或光接收器中的一者或兩者;和
與所述光發射器或所述光接收器中的一者或兩者相鄰的光學濾光器,其中所述光學濾光器包括至少一個波長透射選擇性層,所述波長透射選擇性層包括吸收體組分,其中所述波長透射選擇性層至少部分地減少入射到所述波長透射選擇性層上的從701nm至849nm的波長的透射。
2.根據權利要求1所述的系統,其中所述波長透射選擇性層至少部分地允許除從701nm至849nm之外的波長的透射。
3.根據權利要求1至2中任一項所述的系統,其中所述波長透射選擇性層透射少于約50%的從中穿過的從701nm至849nm的波長、透射少于約40%的從中穿過的從701nm至849nm的波長、透射少于約30%的從中穿過的從701nm至849nm的波長、透射少于約20%的從中穿過的從701nm至849nm的波長、或者透射少于約15%的從中穿過的從701nm至849nm的波長。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的系統,其中所述波長透射選擇性層至少部分地減少從350nm至701nm的波長的透射。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的系統,其中所述波長透射選擇性層透射少于約50%的從中穿過的從350nm至701nm的波長、透射少于約40%的從中穿過的從350nm至701nm的波長、透射少于約30%的從中穿過的從350nm至701nm的波長、透射少于約20%的從中穿過的從350nm至701nm的波長、或者透射少于約15%的從中穿過的從350nm至701nm的波長。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的系統,其中所述波長透射選擇性層透射多于約50%的在850nm以上的波長。
7.根據權利要求1至5中任一項所述的系統,其中所述吸收體組分選自染料、顏料或它們的組合。
8.根據權利要求7所述的系統,其中所述染料是視覺上黑色或有顏色的,但對近紅外波長是透明的。
9.根據權利要求8所述的系統,其中所述染料是金屬絡合物染料。
10.根據權利要求7所述的系統,其中所述吸收體組分是顏料。
11.根據權利要求10所述的系統,其中所述顏料是納米粒子顏料。
12.根據權利要求10或11所述的系統,其中所述顏料是有機顏料、無機顏料或它們的組合。
13.根據權利要求1至12中任一項所述的系統,其中所述光發射器或所述光接收器中的一者或兩者具有在近紅外范圍內的工作波長。
14.根據權利要求1至13中任一項所述的系統,其中所述光學濾光器包括表面光學微結構。
15.根據權利要求1至14中任一項所述的系統,其中所述光發射器包括近紅外LED或近紅外激光器。
16.根據權利要求1至15中任一項所述的系統,其中所述光接收器包括近紅外相機或具有近紅外接收譜帶的光傳感器。
17.根據權利要求1至16中任一項所述的系統,其中所述光學濾光器包括反射層。
18.根據權利要求1至17中任一項所述的系統,其中所述光學濾光器包括含珠漫射體層。
19.根據權利要求1至18中任一項所述的系統,其中所述光學濾光器被配置為對所述光接收器至少部分地屏蔽可見光波長,同時基本上允許所述光接收器接收近紅外波長。
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