[發明專利]記錄全息圖的曝光設備，記錄全息圖的方法和控制用于記錄全息圖的曝光設備的方法

有效

• 申請號: 201880067739.0
• 申請日: 2018-09-20
• 公開（公告）號: CN111247488B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: R·菲斯;M·吉克
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: G03H1/04
• 分類號: G03H1/04;G02B21/33;G03H1/26;G03H1/02;G03H1/22
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 郭毅

1.一種用于記錄全息圖的曝光設備(300)，其中，所述曝光設備(300)具有以下特征：

至少一個調制單元(304)，所述至少一個調制單元構造用于通過將代表所述全息圖的至少一個全息元件的調制施加到激光束(308，338)上來產生代表參考射束和/或對象射束的調制射束(310)；

至少一個縮小單元(312)，所述至少一個縮小單元構造用于在使用所述調制射束(310)的情況下產生改變的調制射束(318)，其中，相比于所述調制射束(310)，所述改變的調制射束(318)具有更小的射束直徑；

至少一個物鏡單元(320)，所述至少一個物鏡單元構造用于將所述改變的調制射束(318)引導穿過浸沒介質到記錄材料(302)上，以便通過借助所述改變的調制射束(318)對所述記錄材料(302)的曝光來記錄所述全息圖；

另外的調制單元(342)、另外的縮小單元(346)和另外的物鏡單元(350)，其中，所述另外的調制單元(342)構造用于通過將代表所述全息元件的另外的調制施加到另外的激光束(340)上來產生另外的調制射束(344)，其中，所述調制射束(310)代表所述參考射束，而所述另外的調制射束(344)代表所述對象射束，其中，所述另外的縮小單元(346)構造用于使用所述另外的調制射束(344)來產生另外的改變的調制射束(348)，其中，相比于所述另外的調制射束(344)，所述另外的改變的調制射束(348)具有更小的射束直徑，其中，所述另外的物鏡單元(350)構造用于將所述另外的改變的調制射束(348)引導穿過另外的浸沒介質到所述記錄材料(302)上，并使所述另外的改變的調制射束與所述改變的調制射束(318)在所述記錄材料(302)處發生干涉，以便記錄所述全息圖。

2.根據權利要求1所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述調制單元(304)構造成通過所述激光束(308，338)的相位的移位來施加所述調制。

3.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述調制單元(304)實施為LCoS顯示器。

4.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述調制單元(304)具有由尺寸小于4μm的像素組成的像素結構和/或構造成將所述調制射束(310)以大于2.5度的衍射角發射到至所述縮小單元(312)的射束路徑中。

5.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述物鏡單元(320)具有大于1.1的數值孔徑和/或具有距所述記錄材料(302)的大于600μm的工作距離。

6.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述縮小單元(312)構造用于產生具有在100和200μm之間的射束直徑的射束作為所述改變的調制射束(318)。

7.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，在所述曝光設備中，所述縮小單元(312)具有代表第一開普勒望遠鏡(504)的至少一個第一成像單元(314，316)和代表第二開普勒望遠鏡(506)的第二成像單元(500，502)，其中，所述第一成像單元(314，316)和所述第二成像單元(500，502)光學地串聯連接。

8.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，所述曝光設備具有至少一個調整單元(358)，所述至少一個調整單元用于調整所述調制射束(310)和/或所述改變的調制射束(318)，其中，所述調整單元(358)尤其實施為CMOS元件。

9.根據權利要求1或2所述的曝光設備(300)，所述曝光設備具有移動單元(351)，所述移動單元構造用于相對于所述物鏡單元(320)地移動所述記錄材料(302)，以便使得能夠借助所述改變的調制射束(318)對所述記錄材料(302)進行順序的曝光。