[發(fā)明專利]量測設(shè)備、光刻系統(tǒng)和測量結(jié)構(gòu)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880067657.6
• 申請日: 2018-10-09
• 公開（公告）號: CN111226174B
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 喬安科·拉文斯卑爾根;D·阿克布盧特;N·潘迪;廉晉
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種用于測量形成在襯底上的結(jié)構(gòu)以確定感興趣的參數(shù)的量測設(shè)備，所述量測設(shè)備包括：

光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成將輻射聚焦至所述結(jié)構(gòu)上且將來自所述結(jié)構(gòu)的反射輻射引導(dǎo)至檢測系統(tǒng)，其中：

所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成將光學(xué)特性的多個不同的偏移施加至從所述結(jié)構(gòu)反射之前和/或之后的輻射，使得相對于從光瞳平面場分布的第二點(diǎn)導(dǎo)出的反射輻射，將對應(yīng)的多個不同的偏移提供至從所述光瞳平面場分布的第一點(diǎn)導(dǎo)出的反射輻射；并且

所述檢測系統(tǒng)被配置成檢測由從所述光瞳平面場分布的所述第一點(diǎn)導(dǎo)出的反射輻射與從所述光瞳平面場分布的所述第二點(diǎn)導(dǎo)出的反射輻射之間的干涉引起的對應(yīng)的多個輻射強(qiáng)度，其中每個輻射強(qiáng)度對應(yīng)于所述多個不同的偏移中的不同的一個偏移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量測設(shè)備，其中所述干涉使得檢測到的輻射強(qiáng)度的包含關(guān)于所述感興趣的參數(shù)的信息的分量相對于所述檢測到的輻射強(qiáng)度的一個或更多個其它分量被增強(qiáng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的量測設(shè)備，其中所述不同的偏移包括不同的振幅偏移或不同的相位偏移中的任一個或兩個。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的量測設(shè)備，其中所述不同的偏移包括在第一指向上的至少一個偏移，和在與所述第一指向相反的第二指向上的至少一個偏移。

5.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中：

由取決于偏振的光學(xué)元件至少部分地限定所述不同的偏移，所述取決于偏振的光學(xué)元件被配置成根據(jù)傳遞通過所述取決于偏振的光學(xué)元件的輻射的偏振來修改所述輻射的振幅或相位；并且

所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成使得來自或形成所述光瞳平面場分布的所述第一點(diǎn)的輻射以與來自或形成所述光瞳平面場分布的所述第二點(diǎn)的輻射不同的偏振傳遞通過所述取決于偏振的光學(xué)元件。

6.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括偏振分束器，并且由所述偏振分束器與延遲器和偏振器中的任一個或兩個之間的不同的相對角度至少部分地限定所述不同的偏移。

7.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述不同的偏移至少部分地由分束器的不同的分束比限定。

8.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成使所述檢測系統(tǒng)檢測由來自所述光瞳平面場分布中的第一點(diǎn)與第二點(diǎn)的多個不同對的反射輻射之間的干涉引起的輻射強(qiáng)度的集合，輻射強(qiáng)度的每個集合包括針對所述多個不同的偏移中的每個偏振的輻射強(qiáng)度。

9.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成將輻射束分裂成多個輻射束且稍后重組所述多個輻射束，以便引起來自所述光瞳平面場分布中的所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)的所述反射輻射之間的干涉。

10.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括分束器，所述分束器被配置成將輻射束分裂成第一輻射束和第二輻射束，并且所述光學(xué)系統(tǒng)被配置成使得：

所述第一輻射束與所述第二輻射束圍繞包括第一支路和第二支路的共同的光學(xué)路徑在相反的方向上傳播，所述第一輻射束沿所述第一支路從所述分束器傳播至所述襯底且沿所述第二支路從所述襯底傳播回到所述分束器，并且所述第二輻射束沿所述第二支路從所述分束器傳播至所述襯底且沿所述第一支路從所述襯底傳播回到所述分束器。

11.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中與所述多個不同的偏移對應(yīng)的所述多個輻射強(qiáng)度中的至少兩個輻射強(qiáng)度在不同的測量支路中被同時測量。

12.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中與所述多個不同的偏移對應(yīng)的所述多個輻射強(qiáng)度中的至少兩個輻射強(qiáng)度在同一測量支路中在不同時間被測量。

13.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的量測設(shè)備，其中所述感興趣的參數(shù)包括重疊。