[發(fā)明專利]優(yōu)化測量照射光斑相對于襯底上的目標(biāo)的位置和/或尺寸的方法和相關(guān)設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880066410.2 | 申請日： | 2018-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN111213092B | 公開（公告）日： | 2022-05-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | J·M·范博克斯梅爾;M·J·M·范達姆;K·范貝爾克;謝特·泰門·范德波斯特;J·H·A·范德里德 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 張啟程 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 優(yōu)化 測量 照射 光斑 相對于 襯底 目標(biāo) 位置 尺寸 方法 相關(guān) 設(shè)備 | ||
1.一種在檢查設(shè)備內(nèi)對測量照射光斑相對于襯底上的目標(biāo)的位置和/或大小進行優(yōu)化的方法，所述方法包括：
針對在所述襯底的平面上所述測量照射光斑相對于所述目標(biāo)的不同大小和/或位置，檢測因照射所述目標(biāo)而產(chǎn)生的來自至少所述目標(biāo)和目標(biāo)周圍的散射輻射的特性；以及
基于所檢測到的散射輻射的特性，優(yōu)化所述測量照射光斑相對于所述目標(biāo)的位置和/或大小，其中所述優(yōu)化包括基于所述特性來優(yōu)化所述測量照射光斑相對于所述目標(biāo)的對準位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中優(yōu)化步驟包括優(yōu)化所述測量照射光斑相對于所述目標(biāo)的大小，所述測量照射光斑的大小取決于所述測量照射光斑在所述目標(biāo)上的聚焦，所述方法還包括：
針對所述測量照射光斑在所述目標(biāo)上的不同聚焦設(shè)置來檢測所述散射輻射；和
基于針對不同聚焦設(shè)置中每個聚焦設(shè)置所檢測到的散射輻射的特性的比較來選擇最佳聚焦設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所檢測到的散射輻射的特性是強度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其中最佳聚焦設(shè)置對應(yīng)于針對所檢測到的散射輻射的特性的最高值或最低值。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其中所述方法還包括執(zhí)行針對所述測量照射光斑在所述目標(biāo)上的不同聚焦設(shè)置來檢測所述散射輻射的所述步驟；以及基于來自不同部位的所檢測到的散射輻射的特性來選擇所述最佳聚焦設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括：針對不同聚焦設(shè)置中每個聚焦設(shè)置，確定在所檢測到的散射輻射的特性與所述測量照射光斑相對于所述目標(biāo)的位置之間的關(guān)系的峰值的寬度；以及
基于針對不同聚焦設(shè)置中每個聚焦設(shè)置的所述峰值的寬度的比較來選擇最佳聚焦設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所檢測到的散射輻射的特性是所述散射輻射的強度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述散射輻射的強度包括一個或更多個檢測到的非零衍射階的強度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其中所述檢測步驟包括在所述測量照射光斑移動到所述目標(biāo)、穩(wěn)定于所述目標(biāo)上并且移動遠離所述目標(biāo)的采集時間段內(nèi)，在不同采樣情況下檢測來自所述目標(biāo)的散射輻射。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，在單個采集時間段內(nèi)，所述對準位置針對襯底的平面的兩個正交方向被優(yōu)化，在此期間，所述照射光斑移動到所述目標(biāo)的方向和照射光斑移動遠離所述目標(biāo)的方向相互正交。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中在單獨的采集時間段中，針對襯底的平面的正交方向中的每個方向優(yōu)化所述對準位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中還包括：
針對在所述采集時間段內(nèi)采集的多個圖像來重構(gòu)對準誤差，所述多個圖像包括當(dāng)所述測量照射光斑移動到所述目標(biāo)和/或移動遠離所述目標(biāo)時采集的圖像；
校正所述測量照射光斑在所述多個圖像中每個圖像上的定位；和
將所述多個圖像集成到最終圖像中。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，包括：檢測所述襯底的位置并且在所述優(yōu)化步驟中使用檢測到的襯底的位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述優(yōu)化步驟包括重構(gòu)對準誤差，所述對準誤差是實際對準位置與期望對準位置的差。
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