[發明專利]低劑量帶電粒子量測系統

有效

• 申請號: 201880066006.5
• 申請日: 2018-10-05
• 公開（公告）號: CN111201585B
• 公開（公告）日: 2023-02-10
• 發明（設計）人: 王飛;方偉;劉國獅
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H01J37/22
• 分類號: H01J37/22;H01J37/28
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種量測系統，包括：

帶電粒子束裝置，被配置成產生帶電粒子束；以及

控制器，被配置成：

基于所述帶電粒子束獲取樣品的一個或多個圖像，并且將所述一個或多個圖像存儲在存儲裝置中；

獲取與所述樣品的特征的第一實例相關聯的第一多個測量結果；

獲取與所述樣品的所述特征的第二實例相關聯的第二多個測量結果，所述第二實例與所述第一實例位于所述樣品上的分離位置處；以及

基于所述第一多個測量結果和所述第二多個測量結果來確定表示所述特征的參數的組合的測量結果。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述第一實例和所述第二實例相同。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述組合的測量結果是所述特征的臨界尺寸。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述組合的測量結果的精確度小于或等于0.1nm。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述組合的測量結果包括所述第一多個測量結果中的每個測量結果與所述第二多個測量結果中的每個測量結果的平均值。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像包括多個圖像，并且所述控制器被配置成在不移動保持所述樣品的樣品臺的情況下獲取所述一個或多個圖像。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述帶電粒子束被設置為小于或等于250pA的電流。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像包括分離地存儲在所述存儲裝置中的多個圖像，所述多個圖像中的第一圖像包括所述第一實例，并且所述多個圖像中的第二圖像包括所述第二實例。

9.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像是存儲在所述存儲裝置中的單個圖像，并且所述控制器被配置成將所述單個圖像劃分為多個區域，所述多個區域中的第一區域包括所述第一實例，并且所述多個區域中的第二區域包括所述第二實例。

10.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像的幀的數目小于或等于四。

11.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像的幀的數目小于或等于二。

12.根據權利要求1所述的系統，其中所述一個或多個圖像的幀的數目為一。

13.一種量測方法，包括：

產生帶電粒子束；

通過利用所述帶電粒子束輻射樣品的第一成像區域來產生第一成像信號；

通過利用所述帶電粒子束輻射所述樣品的第二成像區域來產生第二成像信號，所述第二成像區域與所述第一成像區域位于所述樣品上的分離位置處；

獲取與所述第一成像區域中的特征的第一實例相關聯的第一多個測量結果；

獲取與所述第二成像區域中的所述特征的第二實例相關聯的第二多個測量結果；以及

基于所述第一多個測量結果和所述第二多個測量結果來確定表示所述特征的參數的組合的測量結果。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述第一實例和所述第二實例相同，其中所述組合的測量結果是所述特征的臨界尺寸，并且其中所述組合的測量結果包括所述第一多個測量結果中的每個測量結果與所述第二多個測量結果中的每個測量結果的平均值。

15.一種非暫態計算機可讀介質，包括指令集，所述指令集能夠由裝置的一個或多個處理器執行，以使得所述裝置執行方法，所述方法包括：

產生帶電粒子束；

通過利用所述帶電粒子束輻射樣品的第一成像區域來產生第一成像信號；

通過利用所述帶電粒子束輻射所述樣品的第二成像區域來產生第二成像信號，所述第二成像區域與所述第一成像區域位于所述樣品上的分離位置處；

獲取與所述第一成像區域中的特征的第一實例相關聯的第一多個測量結果；

獲取與所述第二成像區域中的所述特征的第二實例相關聯的第二多個測量結果；以及

基于所述第一多個測量結果和所述第二多個測量結果來確定表示所述特征的參數的組合的測量結果。