[發明專利]用于對像素塊進行去塊濾波的方法和裝置有效
| 申請號： | 201880065999.4 | 申請日： | 2018-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN111213378B | 公開（公告）日： | 2022-05-03 |
| 發明（設計）人： | C·吉斯科特;喬納森·泰奎特;P·烏諾;G·拉羅徹 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | H04N19/117 | 分類號： | H04N19/117;H04N19/14;H04N19/182;H04N19/82;H04N19/86 |
| 代理公司： | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人： | 魏啟學 |
| 地址： | 日本東京都大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 像素 進行 濾波 方法 裝置 | ||
1.一種用于對圖像進行去塊濾波的方法，所述方法包括：
獲得去塊濾波所用的參數值；以及
通過使用去塊濾波所用的所述參數值來對塊中的樣本進行去塊濾波，以限定濾波后的樣本值的允許值的范圍，
其中，獲得去塊濾波所用的所述參數值包括：
獲得基于量化參數值的值；以及
通過向基于所述量化參數值的值添加偏移、并將添加的結果除以2f來獲得去塊濾波所用的所述參數值，其中f是依賴于所述圖像的位深度的值。
2.根據權利要求1所述的方法，其中，添加所述偏移依賴于所述位深度。
3.根據權利要求1所述的方法，其中，基于所述量化參數值的值是從用于將該值與所述量化參數值相關聯的表獲得的。
4.一種用于對圖像進行去塊濾波的設備，所述設備包括：
獲得單元，其被配置為獲得去塊濾波所用的參數值；以及
濾波單元，其被配置為通過使用去塊濾波所用的所述參數值來對塊中的樣本進行去塊濾波，以限定濾波后的樣本值的允許值的范圍，
其中，所述獲得單元被配置為獲得基于量化參數值的值，以及
其中，所述獲得單元被配置為通過向基于所述量化參數值的值添加偏移、并將添加的結果除以2f來獲得去塊濾波所用的所述參數值，其中f是依賴于所述圖像的位深度的值。
5.根據權利要求4所述的設備，其中，添加所述偏移依賴于所述位深度。
6.根據權利要求4所述的設備，其中，基于所述量化參數值的值是從用于將該值與所述量化參數值相關聯的表獲得的。
7.一種計算機可讀存儲介質，其包含計算機可執行指令，所述計算機可執行指令使得計算機進行用于對圖像進行去塊濾波的方法，所述方法包括：
獲得去塊濾波所用的參數值；以及
通過使用去塊濾波所用的所述參數值來對塊中的樣本進行去塊濾波，以限定濾波后的樣本值的允許值的范圍，
其中，獲得去塊濾波所用的所述參數值包括：
獲得基于量化參數值的值；以及
通過向基于所述量化參數值的值添加偏移、并將添加的結果除以2f來獲得去塊濾波所用的所述參數值，其中f是依賴于所述圖像的位深度的值。
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