[發明專利]量測方法

有效

• 申請號: 201880065666.1
• 申請日: 2018-10-09
• 公開（公告）號: CN111201489B
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發明（設計）人: N·加瓦赫里;M·哈吉阿瑪迪;M·博茲庫爾特;A·達科斯塔·埃薩弗勞;M·J·諾特;S·G·J·馬斯杰森;廉晉
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/47;H01L23/544
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種測量與具有至少兩個層的結構有關的感興趣參數的方法，包括：

利用測量輻射照射所述結構并且檢測已被所述結構散射的散射輻射，其中所述散射輻射包括正常和互補的更高衍射階；

限定與所述結構有關的散射測量模型和不對稱模型，其中：

所述散射測量模型將散射輻射參數與至少感興趣參數關聯；以及

所述不對稱模型將所述散射輻射參數與至少一個不對稱參數關聯，所述至少一個不對稱參數與一個或多個測量系統誤差和/或目標中的、除所述兩個層之間的未對準之外的不對稱有關；

使用所述散射測量模型和所述不對稱模型的組合來確定方程組，所述方程組中的每個方程與針對所述散射輻射參數的一組測量值的不同測量值有關，所述一組測量值至少包括針對所述正常和互補更高衍射階中的每個衍射階的不同測量值；以及

針對所述感興趣參數對所述方程組求解。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述照射和檢測步驟針對兩個或多個波長而被執行，并且針對所述散射輻射參數的所述一組測量值包括針對與所述兩個或多個波長中的每個波長有關的所述正常和互補更高衍射階中的每個衍射階的測量值。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述照射和檢測步驟是使用包括所述兩個或多個波長的多波長測量輻射的單個步驟。

4.根據權利要求2所述的方法，其中所述照射和檢測步驟包括針對所述兩個或多個波長中的每個波長的單獨的照射和檢測步驟。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的方法，其中所述照射和檢測步驟僅針對一對波長而被執行，并且所述一對波長中的波長被最小閾值間隔分離，并且其中所選擇的波長中的每個波長顯示高于最小閾值堆疊靈敏度的堆疊靈敏度。

6.根據前述權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述感興趣的參數包括刻套，并且所述兩個層之間的所述未對準包括刻套和有意偏差的組合。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述結構包括具有至少兩個周期性子目標的目標，每個子目標具有不同的有意偏差，并且針對所述散射輻射參數的所述一組測量值包括針對與每個子目標有關的所述正常和互補的更高衍射階中的每個衍射階的測量值。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述至少兩個子目標各自具有相等幅度但相反方向的有意偏差。

9.根據權利要求7或8所述的方法，其中所述至少兩個周期性子目標包括線上線的周期性子目標，其中包括所述線上線的周期性子目標的光柵的線除所述有意偏差所施加的偏移之外實質上被對準，并且所述結構還包括至少兩個附加的空間上線的周期性子目標，除了相應的所述線上線的周期性子目標的所述有意偏差之外，附加的空間上線的周期性子目標各自具有所述光柵節距一半的偏差。

10.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述結構包括單個目標，并且所述求解方程組包括：針對一個或多個依賴于目標的參數估算值；并且將所估算的所述值用作求解步驟中的約束。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所估算的所述值從以下任一項中獲得：

包括兩個目標的目標結構；或

兩個接近的單個目標，所估算的所述值被約束，以將兩個接近的單個目標之間的所估算的所述值的變化最小化。

12.根據權利要求1、2、3、4、7、8或11中任一項所述的方法，其中所述至少一個不對稱參數包括與所述目標中的、除所述兩個層之間的所述未對準的不對稱有關的單個不對稱參數。

13.根據權利要求12所述的方法，包括執行檢測器校準以對所述測量系統誤差進行校正的初始步驟。