[發明專利]用于通過增材制造來生產物體的設備和方法

有效

• 申請號: 201880065403.0
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN111465484B
• 公開（公告）日: 2022-02-25
• 發明（設計）人: 馬克·赫爾曼·埃爾斯·維斯;斯蒂夫·威廉·登特內爾;歐文·維基恩
• 申請（專利權）人: 添加劑工業有限公司
• 主分類號: B29C64/264
• 分類號: B29C64/264;B29C64/153;B22F3/105
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張成新

1.一種用于通過增材制造來生產物體的設備，包括：

-處理室，用于收納能夠通過暴露于電磁輻射而固化的材料的材料浴；

-支撐件，用于相對于所述材料浴的表面水平對所述物體進行定位；

-固化裝置，用于通過電磁輻射對所述表面水平上的材料的選擇性層部分進行固化；以及

-光學控制裝置，其具有被設置在所述固化裝置的電磁輻射的光學路徑中的聚焦單元，并且被布置為用于對至少所述固化裝置所發射的電磁輻射在所述表面水平上的聚焦進行控制；

其特征在于，所述光學控制裝置包括：

-傳感器元件，其被布置為用于檢測所述電磁輻射的聚焦的準確性的量度；

-聚焦校正透鏡元件，其被設置在所述電磁輻射的光學路徑上，并且被布置成能夠在至少其光軸的方向上移動；以及

-聚焦校正控制單元，其連接到所述傳感器元件并且連接到所述聚焦校正透鏡元件，并且被布置為用于響應于由所述傳感器元件獲得的信號而使所述聚焦校正透鏡元件移動。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述光學控制裝置包括分束器元件，所述分束器元件被設置在所述電磁輻射的光學路徑中，并且被布置為用于提供透射光束和反射光束，并且其中，所述傳感器元件被布置在所述分束器元件的下游。

3.根據權利要求2所述的設備，其中，所述傳感器元件被布置成接收所述透射光束。

4.根據權利要求2或3所述的設備，其中，所述分束器元件是平面分束器。

5.根據權利要求2或3所述的設備，其中，所述聚焦校正透鏡元件被布置在所述分束器元件的下游。

6.根據權利要求3所述的設備，其中，所述聚焦校正透鏡元件被布置在所述反射光束的光學路徑中。

7.根據權利要求6所述的設備，其中，所述聚焦校正透鏡元件被布置在所述分束器元件與所述聚焦單元之間。

8.根據權利要求1-3中任一項所述的設備，其中，所述聚焦校正控制單元被布置為用于接收所述設備的系統信息和/或系統數據，并且被布置為用于響應于所述設備的所述系統信息和/或所述系統數據而使所述聚焦校正透鏡元件移動。

9.根據權利要求1-3中任一項所述的設備，其中，所述聚焦校正透鏡元件包括正透鏡或負透鏡。

10.根據權利要求1-3中任一項所述的設備，其中，所述光學控制裝置包括被布置在所述傳感器元件的上游的正透鏡元件。

11.一種使用根據權利要求1-10中任一項所述的設備對材料的材料浴的表面水平上的電磁輻射的聚焦進行校正的方法，所述材料能夠通過暴露于所述電磁輻射而固化，其中，所述方法包括以下步驟：

-提供電磁輻射束；

-通過使用設置在所述電磁輻射的光學路徑中的聚焦單元，使所述電磁輻射束聚焦在所述材料浴的表面水平上；

-檢測所述電磁輻射的聚焦的準確性的量度；

-響應于檢測到的所述電磁輻射的聚焦的準確性的量度而使聚焦校正透鏡元件移動，以對所述聚焦進行校正。