[發明專利]用于光譜橢圓偏光儀或反射計的透鏡設計

在審

• 申請號: 201880064506.5
• 申請日: 2018-10-08
• 公開（公告）號: CN111164491A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: B·布拉森海姆
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G02B27/01
• 分類號: G02B27/01
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種透鏡系統，其包括：

主鏡，其是彎曲的；

非球面副鏡，其具有小于所述主鏡的直徑的直徑，其中所述非球面副鏡與所述主鏡共享光軸，且其中所述非球面副鏡及所述主鏡相對于所述光軸旋轉地對稱；及

支撐構件，其經安置于所述非球面副鏡上，其中所述支撐構件在所述透鏡系統的操作波長內是透明的。

2.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述支撐構件是玻璃。

3.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述支撐構件是二氧化硅。

4.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述支撐構件是CaF₂。

5.根據權利要求1所述的透鏡系統，其進一步包括外殼，其中所述主鏡及所述非球面副鏡經安置于所述外殼中，且其中所述支撐構件將所述非球面副鏡連接到所述外殼。

6.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述非球面副鏡的所述直徑是所述主鏡的直徑的2.5％到20％。

7.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述支撐構件具有非零凸曲率半徑及非零凹曲率半徑。

8.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述非球面副鏡經配置以阻擋通過所述透鏡系統的10％或更少的光。

9.根據權利要求1所述的透鏡系統，其中所述支撐構件的曲率半徑是所述支撐構件的半徑的0.67倍到1.5倍。

10.一種橢圓偏光儀，其包含根據權利要求1所述的透鏡系統。

11.一種反射計，其包含根據權利要求1所述的透鏡系統。

12.一種方法，其包括：

導引光束通過在所述光束的操作波長內透明的支撐構件；

從主鏡反射所述光束；及

從非球面副鏡反射所述光束，所述非球面副鏡具有小于所述主鏡的直徑的直徑，其中所述非球面副鏡經安置于所述支撐構件上，其中所述非球面副鏡與所述主鏡共享光軸，且其中所述非球面副鏡及所述主鏡相對于所述光軸旋轉地對稱。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述非球面副鏡經配置以阻擋被導引通過所述支撐元件的10％或更少的光束。

14.根據權利要求12所述的方法，其中所述光束以法向入射±2°入射于所述支撐構件上。

15.根據權利要求12所述的方法，其中所述支撐構件是玻璃。

16.根據權利要求12所述的方法，其中所述支撐構件是二氧化硅。

17.根據權利要求12所述的方法，其中所述支撐構件是CaF₂。

18.根據權利要求12所述的方法，其中所述光束用于在半導體晶片上執行計量。

19.根據權利要求18所述的方法，其中所述光束用于執行橢圓偏光測量術。

20.根據權利要求18所述的方法，其中所述光束用于執行反射測量術。