[發(fā)明專利]用于鎢磨光應(yīng)用的經(jīng)表面處理的研磨劑顆粒

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880064240.4
• 申請日: 2018-10-03
• 公開（公告）號: CN111183195B
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔驥;黃禾琳;K.P.多克里;P.K.辛格;黃宏聰;簡智賢
• 申請（專利權(quán)）人: CMC材料股份有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09G1/04;C09K3/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邢岳;宋莉

1.用于對包含至少一個鎢或鈷層及至少一個硅氧化物層的基板進行拋光的化學(xué)機械拋光組合物，包含：

(a)研磨劑，其中，該研磨劑在拋光組合物的pH下是帶正電的，選自：氧化鈰、氧化鈦、氧化鋯及其組合，其中該研磨劑表面包覆有包含磺酸單體單元及羧酸單體單元的組合的共聚物，或其中該研磨劑表面包覆有包含磺酸單體單元及膦酸單體單元的組合的共聚物，

(b)氧化劑，及

(c)水，

其中該拋光組合物具有2至5的pH，并且

其中該氧化劑包含過氧化氫和5ppm至500ppm硝酸鐵。

2.權(quán)利要求1的拋光組合物，其中該共聚物由2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸單體單元及丙烯酸單體單元組成。

3.權(quán)利要求1的拋光組合物，其中該拋光組合物進一步包含選自以下的有機膦酸：2-氨基乙基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸、氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,2-三膦酸、乙烷-1-羥基-1,1-二膦酸、乙烷-1-羥基-1,1,2-三膦酸、乙烷-1,2-二羧基-1,2-二膦酸、甲烷羥基膦酸、2-膦酰基丁烷-1,2-二羧酸、1-膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸、α-甲基膦酰基琥珀酸及其組合。

4.權(quán)利要求1的拋光組合物，其中該拋光組合物進一步包含氨基酸。

5.權(quán)利要求4的拋光組合物，其中該氨基酸為甘氨酸、賴氨酸、精氨酸或丙氨酸。

6.用于對包含至少一個鎢或鈷層及至少一個硅氧化物層的基板進行拋光的化學(xué)機械拋光組合物，包含：

(a)氧化鋁研磨劑，其中該氧化鋁表面包覆有包含磺酸單體單元及羧酸單體單元的組合的共聚物，或其中該研磨劑表面包覆有包含磺酸單體單元及膦酸單體單元的組合的共聚物，

(b)氧化劑，

(c)有機膦酸，其中該有機膦酸選自2-氨基乙基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸、氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,2-三膦酸、乙烷-1-羥基-1,1-二膦酸、乙烷-1-羥基-1,1,2-三膦酸、乙烷-1,2-二羧基-1,2-二膦酸、甲烷羥基膦酸、2-膦酰基丁烷-1,2-二羧酸、1-膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸、α-甲基膦酰基琥珀酸及其組合，及

(d)水，

其中該拋光組合物具有2至5的pH，并且

其中該氧化劑包含過氧化氫和5ppm至500ppm硝酸鐵。

7.權(quán)利要求6的拋光組合物，其中該共聚物由2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸單體單元及丙烯酸單體單元組成。

8.權(quán)利要求6的拋光組合物，其中該拋光組合物進一步包含氨基酸。

9.權(quán)利要求8的拋光組合物，其中該氨基酸為甘氨酸、賴氨酸、精氨酸或丙氨酸。