[發(fā)明專利]用于在半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中從硅-鍺/硅堆疊同時(shí)去除硅和硅-鍺合金的蝕刻溶液

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880063847.0
• 申請(qǐng)日: 2018-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN111164183B
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葛智逵;李翊嘉;劉文達(dá);郭致賢;A·J·亞當(dāng)齊克
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 弗薩姆材料美國(guó)有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): C09K13/08
• 分類號(hào): C09K13/08;C09K13/06;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/3213
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 吳亦華;徐志明

1.一種適于從微電子器件同時(shí)去除硅和硅-鍺的蝕刻溶液，其包含：

0.5%至90%重量的水；

0.1%至20%重量的氧化劑，其選自由過(guò)氧化氫、高碘酸、碘酸鉀、高錳酸鉀、過(guò)硫酸銨、鉬酸銨、硝酸鐵、硝酸、硝酸鉀、氨及其混合物組成的組；

包含胺化合物和多官能有機(jī)酸的緩沖組合物，其中所述胺化合物包括至少一種烷醇胺；

0.5%至59.5%重量的水混溶性溶劑，其選自由己氧基丙胺、聚(氧乙烯)二胺、醇、亞砜、二醇醚或其混合物組成的組；和

0.01%至10%重量的氟離子源，其選自由氫氟酸、氟化銨、季銨氟硼酸鹽、氟硼酸、季銨六氟化鋁和具有式R¹NR²R³R⁴F的脂肪族伯、仲或叔胺的氟化物鹽組成的組，其中R¹、R²、R³和R⁴單獨(dú)地代表H或C₁-C₄烷基。

2.權(quán)利要求1所述的蝕刻溶液，其中所述緩沖組合物額外包含銨化合物。

3.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的蝕刻溶液，其中所述氧化劑是過(guò)氧化氫。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述胺化合物是選自以下的烷醇胺化合物：N-甲基乙醇胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、三異丙醇胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、三乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、環(huán)己胺二乙醇、二異丙醇胺、環(huán)己胺二乙醇及其混合物。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中烷醇胺是氨基(乙氧基)乙醇。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述水混溶性溶劑選自乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、三丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、二甘醇正丁醚、己氧基丙胺、聚(氧乙烯)二胺、二甲基亞砜、四氫糠醇、甘油、丁基雙甘油或其混合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述水混溶性溶劑是選自由乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇單丙醚、二甘醇單異丙醚、二甘醇單丁醚、二甘醇單異丁醚、二甘醇單芐基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、三甘醇單甲醚、三甘醇二甲醚、聚乙二醇單甲醚、二甘醇甲乙醚、三甘醇甲乙醚、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇二甲醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單丙醚、二丙二醇單甲醚（DPM）、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單異丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇二異丙醚、三丙二醇單甲醚、1-甲氧基-2-丁醇、2-甲氧基-1-丁醇、2-甲氧基-2-甲基丁醇、1,1-二甲氧基乙烷和2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇組成的列表。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述水混溶性溶劑是選自由乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇單丙醚、二甘醇單異丙醚、二甘醇單丁醚、二甘醇單異丁醚、二甘醇單芐基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、三甘醇單甲醚、三甘醇二甲醚、聚乙二醇單甲醚、二甘醇甲乙醚、三甘醇甲乙醚、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇二甲醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單異丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇二異丙醚、三丙二醇單甲醚、和2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇組成的列表。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述水混溶性溶劑是二甘醇單丁醚。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述水混溶性溶劑是丁基雙甘油。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻溶液，其中所述多官能有機(jī)酸是具有至少三個(gè)羧酸基團(tuán)的多質(zhì)子酸。