[發(fā)明專利]路徑解析的光學(xué)采樣架構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880063438.0 | 申請日: | 2018-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN111164415A | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | M·A·阿伯雷;M·A·特雷爾;J·佩爾克 | 申請(專利權(quán))人: | 蘋果公司 |
| 主分類號: | G01N21/49 | 分類號: | G01N21/49 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 張曦 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 路徑 解析 光學(xué) 采樣 架構(gòu) | ||
1.一種系統(tǒng),包括:
至少一個光發(fā)射器,所述至少一個光發(fā)射器發(fā)射光;
系統(tǒng)接口,所述系統(tǒng)接口包括:
發(fā)射區(qū)域,由所述至少一個光發(fā)射器發(fā)射的所述光能夠從所述發(fā)射區(qū)域離開所述系統(tǒng),其中所述發(fā)射區(qū)域包括第一維度和第二維度,所述發(fā)射區(qū)域的所述第二維度相對于所述發(fā)射區(qū)域的所述第一維度伸長,其中所述發(fā)射區(qū)域被配置為從由所述至少一個光發(fā)射器發(fā)射的所述光形成具有第二維度的第一光束,當(dāng)所述第一光束離開所述系統(tǒng)時,所述第二維度相對于所述第一光束的第一維度伸長,和
檢測區(qū)域,所述光能夠穿過所述檢測區(qū)域進(jìn)入所述系統(tǒng),其中所述檢測區(qū)域包括第一維度和第二維度,所述檢測區(qū)域的所述第二維度相對于所述檢測區(qū)域的所述第一維度伸長,其中所述發(fā)射區(qū)域的所述第二維度沿所述檢測區(qū)域的所述第二維度伸長的相同方向伸長,并且其中所述檢測區(qū)域被配置為從進(jìn)入所述系統(tǒng)的所述光在所述系統(tǒng)內(nèi)形成第二光束,所述第二光束具有相對于所述第二光束的第一維度伸長的第二維度;
檢測器,所述檢測器檢測所述第二光束中的至少一部分并生成指示所述第二光束中的所述部分的一個或多個信號;和
邏輯部件,所述邏輯部件從所述一個或多個信號確定一個或多個樣本特性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述發(fā)射區(qū)域的尺寸和形狀與所述檢測區(qū)域的尺寸和形狀相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述檢測區(qū)域的所述第二維度比所述發(fā)射區(qū)域的所述第二維度長。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括:
光學(xué)器件選擇性地允許所述第二光束中的所述部分穿過所述檢測器,其中所述第二光束中的所述部分滿足角度變化標(biāo)準(zhǔn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其中所述角度變化標(biāo)準(zhǔn)包括基于目標(biāo)光學(xué)路徑長度的角度閾值范圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述檢測區(qū)域通過選擇性地允許來自進(jìn)入所述系統(tǒng)的所述光的滿足角度變化標(biāo)準(zhǔn)的光來形成所述第二光束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述至少一個光發(fā)射器包括一個或多個輸出耦合器和反射器,所述一個或多個輸出耦合器定位成與所述反射器相距第一間隔距離,
其中所述一個或多個輸出耦合器定位成與所述發(fā)射區(qū)域相距第二間隔距離,
其中所述檢測器定位成與所述檢測區(qū)域相距第三間隔距離,并且
其中目標(biāo)光學(xué)路徑長度、所述第一間隔距離、所述第二間隔距離和所述第三間隔距離的總和等于所述反射器的焦距。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括:
復(fù)用器,所述復(fù)用器:
接收由所述至少一個光發(fā)射器發(fā)射的所述光,
從由所述至少一個光發(fā)射器發(fā)射的所述光形成第三光束,并且
輸出所述第三光束;
相位控制網(wǎng)絡(luò),所述相位控制網(wǎng)絡(luò):
接收所述第三光束,并且
控制所述第三光束的至少一部分的相位;和
輸出耦合器陣列,所述輸出耦合器陣列包括多個輸出耦合器,所述輸出耦合器陣列將所述第三光束重新引導(dǎo)到所述發(fā)射區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中所述第三光束具有以下中的一者或多者:
不同的平面內(nèi)發(fā)射角度和平面內(nèi)發(fā)射位置。
10.一種光發(fā)射器,包括:
一個或多個光源,所述一個或多個光源沿第一平面發(fā)射光;
一個或多個波導(dǎo),所述一個或多個波導(dǎo)輸出由所述一個或多個光源發(fā)射的所述光;和
一個或多個輸出耦合器,所述一個或多個輸出耦合器將由所述一個或多個波導(dǎo)輸出的所述光引導(dǎo)到第二平面,
其中由所述一個或多個輸出耦合器引導(dǎo)的所述光是相對于由所述一個或多個波導(dǎo)輸出的所述光具有不同特性的第一光束,所述特性包括平面內(nèi)發(fā)射角度、平面內(nèi)發(fā)射位置或兩者;
其中所述第一光束具有相對于所述第一光束的第一維度伸長的第二維度。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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