[發(fā)明專利]發(fā)光二極管裝置及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880060577.8 | 申請日: | 2018-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN111133593B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 姜鎮(zhèn)熙;姜智薰;趙晟佑 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/50;H01L33/06;H01L33/44;H01L33/10;H01L33/58;H01L33/62 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 周祺 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發(fā)光二極管 裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種制造發(fā)光二極管LED裝置的方法,所述方法包括:
在襯底上形成所述LED;
形成圍繞所述LED的至少一個側(cè)表面的防漏光層;
蝕刻所述襯底中與所述LED相對應的部分;以及
在蝕刻的部分中將波長轉(zhuǎn)換材料結合到所述LED,
其中所述波長轉(zhuǎn)換材料包括波長轉(zhuǎn)換半導體層和反射層,
其中所述波長轉(zhuǎn)換半導體層包括量子阱層,用于將從所述LED發(fā)射的光轉(zhuǎn)換為經(jīng)波長轉(zhuǎn)換后的光,
其中所述反射層圍繞所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的至少一個側(cè)表面,以反射所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的所述至少一個側(cè)表面處的經(jīng)波長轉(zhuǎn)換后的光,并且
其中所述反射層延伸到所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的面朝所述LED的表面的一部分上,以反射所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的面朝所述LED的所述表面的所述部分處的經(jīng)波長轉(zhuǎn)換后的光。
2.根據(jù)權利要求1所述的制造方法,還包括產(chǎn)生所述波長轉(zhuǎn)換材料,
其中產(chǎn)生所述波長轉(zhuǎn)換材料包括:
通過化學氣相沉積CVD工藝在另一襯底上形成上分布式布拉格反射器DBR涂層;
通過所述CVD工藝在所述上DBR涂層上形成波長轉(zhuǎn)換半導體層;
通過所述CVD工藝在所述波長轉(zhuǎn)換半導體層上形成下DBR涂層;以及
蝕刻所述另一襯底中的在所述LED的位置之外的區(qū)域,以及
其中,所述結合包括:將所述波長轉(zhuǎn)換材料結合到所述LED的下部。
3.根據(jù)權利要求2所述的制造方法,其中所述上DBR涂層、所述波長轉(zhuǎn)換半導體層和所述下DBR涂層被形成為具有與所述LED的尺寸相對應的尺寸。
4.根據(jù)權利要求2所述的制造方法,還包括:在將所述波長轉(zhuǎn)換材料結合到所述LED的所述下部之后,去除所述另一襯底。
5.根據(jù)權利要求2所述的制造方法,其中所述反射層形成為還從所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的所述至少一個側(cè)表面延伸預定長度到所述下DBR涂層的下部。
6.根據(jù)權利要求5所述的制造方法,其中:
所述防漏光層防止從所述LED發(fā)射出的光通過所述LED的所述至少一個側(cè)表面散射,
所述波長轉(zhuǎn)換半導體層將來自所述LED的光的第一波長轉(zhuǎn)換為預定的第二波長,并且通過擴散材料將所述第二波長的光擴散并發(fā)射到外部,
所述下DBR涂層使從所述LED發(fā)射出的所述第一波長的光通過,而反射所述第二波長的光,
所述上DBR涂層使所述第二波長的光通過,而反射除所述第二波長之外的波長的光,以及
所述反射層反射通過所述波長轉(zhuǎn)換半導體層的所述至少一個側(cè)表面和下表面發(fā)射出的光。
7.根據(jù)權利要求2所述的制造方法,其中所述結合包括:在所述LED的下表面和所述下DBR涂層的下表面中的至少一個上形成光學粘合劑層,所述光學粘合劑層將所述波長轉(zhuǎn)換材料結合到所述LED的所述下部。
8.根據(jù)權利要求1所述的制造方法,其中所述波長轉(zhuǎn)換材料是以下項中的一項:與紅色R相對應的第一波長轉(zhuǎn)換層;與綠色G相對應的第二波長轉(zhuǎn)換層;與藍色B相對應的第三波長轉(zhuǎn)換層;以及與白色W相對應的第四波長轉(zhuǎn)換層。
9.根據(jù)權利要求1所述的制造方法,還包括在所述LED下方形成多個焊盤,所述多個焊盤從外部電源接收電力。
10.根據(jù)權利要求1所述的制造方法,其中所述波長轉(zhuǎn)換材料是II-VI族半導體材料。
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