[發(fā)明專利]近紅外線截止濾光片的制造方法、層疊體及套件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880060003.0
• 申請日: 2018-09-13
• 公開（公告）號: CN111095048A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤翔;片桐良伸;倉橋哲雄
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B5/22
• 分類號: G02B5/22
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 曹陽

1.一種近紅外線截止濾光片的制造方法，包括：

在基板的表面形成支承體層的工序；

在所述支承體層的表面涂布包含近紅外線吸收劑的近紅外線吸收組合物而形成近紅外線吸收組合物層的工序；

對所述近紅外線吸收組合物層進(jìn)行固化處理而形成近紅外線截止濾光片層的工序；

從所述基板剝離所述支承體層與所述近紅外線截止濾光片層的層疊體的工序；及

從由所述基板剝離的層疊體剝離所述支承體層的工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述基板的平面度為14μm以下，并且所述基板在23℃下的每1mm寬度的彎曲剛性大于所述支承體層的彎曲剛性。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層包含高分子薄膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述高分子薄膜的軟化溫度高于所述近紅外線吸收組合物層的固化處理時的最高到達(dá)溫度。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述高分子薄膜在23℃下的斷裂伸長率為5％以上且高于近紅外線截止濾光片層的斷裂伸長率，

所述高分子薄膜在23℃下的每1mm寬度的彎曲剛性為4×10^-6Pa·m⁴以下且小于近紅外線截止濾光片層的每1mm寬度的彎曲剛性。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層在近紅外線截止濾光片層側(cè)的剝離力為9N/25mm以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層在所述基板側(cè)的剝離力為15.5N/25mm以下。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層在所述近紅外線截止濾光片層側(cè)的剝離力大于在所述基板側(cè)的剝離力。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層在所述近紅外線截止濾光片層側(cè)的剝離力小于在所述基板側(cè)的剝離力。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層在所述近紅外線截止濾光片層側(cè)的剝離力與在所述基板側(cè)的剝離力相同。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

形成所述近紅外線吸收組合物層的工序中，在所述支承體層的表面涂布近紅外線吸收組合物而形成近紅外線吸收組合物層，并且在所述支承體層的表面的至少一部分形成未設(shè)置有所述近紅外線吸收組合物層的空白部。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述支承體層的膜厚為1μm～1000μm。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述近紅外線截止濾光片層的膜厚為1μm～500μm。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的近紅外線截止濾光片的制造方法，其中，

所述近紅外線截止濾光片層在23℃下的每1mm寬度的彎曲剛性為5×10^-6Pa·m⁴以下，并且在23℃下的斷裂伸長率為10％以下。