[發(fā)明專利]防反射膜、光學元件及光學系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880059995.5
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN111095037B
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 中村誠吾;吉弘達矢;梅田賢一;板井雄一郎
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02B15/20;B32B7/023;B32B9/00;B32B15/04;G02B1/111
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

1.一種防反射膜，其設置于基材上，其中，

從所述基材側(cè)起依次層疊中間層、含有銀的含銀金屬層及電介質(zhì)層，

所述中間層為具有相對高的折射率的高折射率層與具有相對低的折射率的低折射率層交替層疊而成的2層以上的多層膜，

所述電介質(zhì)層具有朝向空氣的露出面，

該電介質(zhì)層為包含含硅的氧化物層、氟化鎂層及密合層的多層膜，所述密合層在所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層之間與所述含硅的氧化物層和所述氟化鎂層另行設置，且由金屬的氧化物構(gòu)成，提高所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層的密合性，

在所述電介質(zhì)層所具有的朝向空氣的露出面上配置所述含硅的氧化物層。

2.一種防反射膜，其設置于基材上，其中，

從所述基材側(cè)起依次層疊中間層、含有銀的含銀金屬層及電介質(zhì)層，

所述中間層為具有相對高的折射率的高折射率層與具有相對低的折射率的低折射率層交替層疊而成的2層以上的多層膜，

所述電介質(zhì)層具有朝向空氣的露出面，

該電介質(zhì)層為包含含硅的氧化物層、氟化鎂層及密合層的多層膜，所述密合層在所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層之間與所述含硅的氧化物層和所述氟化鎂層另行設置，且由金屬的氧化物構(gòu)成，提高所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層的密合性，

在所述電介質(zhì)層所具有的朝向空氣的露出面上配置所述氟化鎂層。

3.一種防反射膜，其設置于基材上，其中，

從所述基材側(cè)起依次層疊中間層、含有銀的含銀金屬層及電介質(zhì)層，

所述中間層為具有相對高的折射率的高折射率層與具有相對低的折射率的低折射率層交替層疊而成的2層以上的多層膜，

所述電介質(zhì)層具有朝向空氣的露出面，

該電介質(zhì)層為包含含硅的氧化物層、氟化鎂層及密合層的多層膜，所述密合層在所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層之間與所述含硅的氧化物層和所述氟化鎂層另行設置，且由金屬的氧化物構(gòu)成，提高所述含硅的氧化物層與所述氟化鎂層的密合性，

所述氟化鎂層與所述含硅的氧化物層相比配置于所述含銀金屬層側(cè)，

所述電介質(zhì)層具備氟碳層，所述氟碳層為通過與所述含硅的氧化物層的硅烷偶聯(lián)反應而形成的自組裝膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

所述密合層由Al、Zr、Y、La、Hf、Ta、Ti、In、Sn、Nb、Ce及W中的任意金屬的氧化物或多個金屬的氧化物構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的防反射膜，其中，

構(gòu)成所述密合層的所述氧化物包含氧化鋁。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

所述密合層的膜厚為20nm以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

所述含硅的氧化物層與所述密合層的合計膜厚為25nm以下。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

所述含銀金屬層的厚度為6nm以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

在所述含銀金屬層與所述中間層之間具有錨固層。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

在所述含銀金屬層與所述中間層之間具備包含錨固金屬的氧化物的錨固區(qū)域，

在所述含銀金屬層與所述電介質(zhì)層之間，具備包含所述錨固金屬的氧化物的罩體區(qū)域。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的防反射膜，其中，

在所述含銀金屬層中包含20原子％以下的貴金屬。

12.一種光學元件，其具備權(quán)利要求1至11中任一項所述的防反射膜。

13.一種光學系統(tǒng)，其具備包含權(quán)利要求12所述的光學元件且該光學元件的設置有所述防反射膜的面配置于最表面而成的組透鏡。