[發(fā)明專(zhuān)利]具有經(jīng)過(guò)粗化處理的銅表面的物體

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880059907.1
• 申請(qǐng)日: 2018-10-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111108817A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤牧子;鈴木理
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 納美仕有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H05K3/38
• 分類(lèi)號(hào): H05K3/38;C23F1/00;H01M4/66;H01M4/70;H05K1/03
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;程采

1.一種物體，其具有被厚度為6nm以上的銅覆蓋的表面，該物體的特征在于，

在至少一部分的銅表面具有凸部，

凸部的表面含有氧化銅，

凸部的內(nèi)部含有銅，

在截面上，高度為50nm以上的凸部在每3.8μm中平均有5個(gè)以上，并且凸部的平均長(zhǎng)度為500nm以下，

深度6nm(SiO₂換算)處的Cu/O的含有比為5以下。

2.如權(quán)利要求1所述的物體，其特征在于，

所述物體為銅箔、銅顆粒、銅粉或鍍銅的物體。

3.如權(quán)利要求1或2所述的物體，其特征在于，

包含所述氧化銅的層的厚度為8～50nm。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的物體，其特征在于，

所述凸部的高度通過(guò)在由掃描電子顯微鏡得到的截面的拍攝圖像中，測(cè)定將凸部?jī)蓚?cè)的凹部的極小點(diǎn)連結(jié)的線(xiàn)段的中點(diǎn)、與凸部的極大點(diǎn)的距離而得到。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的物體，其特征在于，

包含所述氧化銅的層的厚度通過(guò)連續(xù)電化學(xué)還原法(SERA)測(cè)定。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的物體，其特征在于，

所述深度通過(guò)X射線(xiàn)光電子能譜法(XPS)測(cè)定。

7.一種銅表面的粗化處理方法，其特征在于，包括：

將銅表面氧化的第一工序；和

將發(fā)生了氧化的所述銅表面溶解的第二工序。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，

在第一工序之前，使用堿性水溶液進(jìn)行堿處理。

9.如權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于，

在第一工序中，利用氧化劑將所述銅表面氧化。

10.如權(quán)利要求第7～9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，

在第二工序中，利用溶解劑將發(fā)生了所述氧化的所述銅表面溶解。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，

所述溶解劑的pH值為pH9.0～14.0。

12.如權(quán)利要求7～11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，

將發(fā)生了所述氧化的所述銅表面溶解，使得所述銅表面發(fā)生氧化而生成的氧化銅的溶解率達(dá)到35～99％、并且通過(guò)SERA測(cè)得的氧化膜厚度達(dá)到4～150nm。

13.一種物體的制造方法，其用于制造權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的物體，該制造方法的特征在于，

包括利用權(quán)利要求6～11中任一項(xiàng)所述的方法對(duì)所述物體的表面的銅進(jìn)行處理的工序。

14.一種疊層板的制造方法，所述疊層板為銅箔與樹(shù)脂的疊層板，所述銅箔為權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的物體，該制造方法的特征在于，

包括將所述物體與所述樹(shù)脂以層狀粘接的工序。

15.如權(quán)利要求14所述的疊層板的制造方法，其特征在于，

所述樹(shù)脂為聚苯醚。

16.一種印刷基板的制造方法，其特征在于，

包括利用權(quán)利要求13～15中任一項(xiàng)所述的疊層板的制造方法制造疊層板的工序。