[發明專利]服裝層系統

在審

• 申請號: 201880058856.0
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN111065288A
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 丹尼爾·摩根
• 申請（專利權）人: 耐克創新有限合伙公司
• 主分類號: A41D27/28
• 分類號: A41D27/28;A41D31/02;A41D31/06;A41D31/14;A41D13/005
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 張瑞;鄭霞

1.一種服裝層系統，包括：第一層，所述第一層在第一平面方向上延伸；第二層，所述第二層在所述第一平面方向上延伸；第三層，所述第三層被定位在所述第一層和所述第二層之間，所述第三層具有第一表面和與所述第一表面相反的第二表面，所述第一表面被定位成鄰近所述第一層并且所述第二表面被定位成鄰近所述第二層，其中所述第一表面選擇性地附連到所述第一層并且所述第二表面選擇性地附連到所述第二層；以及調節機構，所述調節機構聯接到所述第二層，其中當所述調節機構處于第一位置中時，所述第二層從所述第一層偏移第一量，并且當所述調節機構處于第二位置中時，所述第二層從所述第一層偏移第二量。

2.如權利要求1所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置中時，所述第二層在所述第一平面方向上偏移所述第一量，并且當所述調節機構處于所述第二位置中時，所述第二層在所述第一平面方向上偏移所述第二量。

3.如權利要求2所述的服裝層系統，其中偏移的所述第一量大于偏移的所述第二量。

4.如權利要求3所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置中時，所述第二層在垂直于所述第一平面方向的第二方向上偏移第三量，并且當所述調節機構處于所述第二位置中時，所述第二層在垂直于所述第一平面方向的所述第二方向上偏移第四量。

5.如權利要求4所述的服裝層系統，其中偏移的所述第四量大于偏移的所述第三量。

6.如權利要求1所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置中時，所述第三層大致在所述第一平面方向上延伸，并且其中當所述調節機構處于所述第二位置中時，所述第三層在與所述第一平面方向非平面的第二方向上延伸。

7.如權利要求6所述的服裝層系統，其中所述第二方向大致垂直于所述第一平面方向。

8.如權利要求1所述的服裝層系統，其中所述第一層是編織層，所述第二層是編織層，并且所述第三層是編織層。

9.如權利要求1所述的服裝層系統，其中所述調節機構是拉片。

10.一種服裝層系統，包括：第一層，所述第一層具有第一孔，所述第一層在第一平面方向上延伸；第二層，所述第二層具有第二孔，所述第二層在所述第一平面方向上延伸；第三層，所述第三層被定位在所述第一層和所述第二層之間，所述第三層具有第一表面和與所述第一表面相反的第二表面，所述第一表面被定位成鄰近所述第一層并且所述第二表面被定位成鄰近所述第二層，其中所述第一表面選擇性地附連到所述第一層并且所述第二表面選擇性地附連到所述第二層；以及調節機構，所述調節機構聯接到所述第二層，其中當所述調節機構處于第一位置中時，所述第一孔從所述第二孔偏移，并且當所述調節機構處于第二位置中時，所述第一孔與所述第二孔對準。

11.如權利要求10所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置和所述第二位置之間的中間的第三位置中時，所述第一孔與所述第二孔部分地對準。

12.如權利要求10所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置中時，所述第二層在所述第一平面方向上從所述第一層偏移第一量，并且當所述調節機構處于所述第二位置中時，所述第二層在所述第一平面方向上從所述第一層偏移第二量，并且其中偏移的所述第一量大于偏移的所述第二量。

13.如權利要求12所述的服裝層系統，其中當所述調節機構處于所述第一位置中時，所述第二層在垂直于所述第一平面方向的第二方向上從所述第一層偏移第三量，并且當所述調節機構處于所述第二位置中時，所述第二層在垂直于所述第一平面方向的所述第二方向上從所述第一層偏移第四量。

14.如權利要求13所述的服裝層系統，其中偏移的所述第四量大于偏移的所述第三量。