[發(fā)明專利]壓力場測繪設(shè)備以及使用所述設(shè)備的清潔玻璃基板的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880058516.8
• 申請日: 2018-07-19
• 公開（公告）號: CN111433578B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金相模;樸俊昱;樸星河;宋英俊
• 申請（專利權(quán)）人: 康寧公司
• 主分類號: G01L1/14
• 分類號: G01L1/14;G01L15/00;B08B11/04
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;吳啟超

提供壓力場測繪設(shè)備以及使用所述設(shè)備的清潔玻璃基板的方法。壓力場測繪設(shè)備包括支撐基板；布置在支撐基板上的多個壓力傳感器，每個壓力傳感器被配置為響應(yīng)于施加到所述壓力傳感器的壓力而輸出信號；防水袋，圍繞支撐基板；及分析器，配置為從多個壓力傳感器的每一個接收信號，并基于所接收的信號實(shí)時輸出支撐基板上的壓力圖。通過使用壓力場測繪設(shè)備以及使用所述設(shè)備的清潔玻璃基板的方法，可在清潔處理中沒有工人之間的偏差的情況下進(jìn)行客觀和定量的測試，因此大大減少例如顆粒缺陷的產(chǎn)品缺陷。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請案依照專利法主張2017年7月21日申請的韓國第10-2017-0092736號申請案的優(yōu)先權(quán)，依賴所述專利案內(nèi)容，且將其內(nèi)容全文以引用方式并入本文中。

一個或多個實(shí)施例涉及壓力場測繪設(shè)備以及使用所述設(shè)備的清潔玻璃基板的方法，更明確來說涉及可在清潔處理中沒有工人之間的偏差的情況下進(jìn)行客觀和定量的測試的壓力場測繪設(shè)備以及使用所述設(shè)備的清潔玻璃基板的方法。

背景技術(shù)

隨著消費(fèi)者對高表面質(zhì)量玻璃基板的需求增加以及越來越常使用具有較大面積的玻璃基板，在制造玻璃基板的處理過程中出現(xiàn)顆粒缺陷的可能性已經(jīng)增加了。

關(guān)于玻璃基板制造處理，用于客觀和定量測試或評估清潔處理的設(shè)備很少，因此難以減少顆粒缺陷的發(fā)生。再者，需要減少由于清潔處理中工人之間的偏差造成的基板質(zhì)量不均勻性。

發(fā)明內(nèi)容

一個或多個實(shí)施例包括可在清潔處理中沒有工人之間的偏差的情況下進(jìn)行客觀和定量測試的壓力場測繪設(shè)備。

一個或多個實(shí)施例包括大大減少例如顆粒缺陷的產(chǎn)品缺陷的清潔玻璃基板的方法。

額外方面將部分地在下面的描述中闡述，并且部分地將從描述中顯而易見，或者可通過實(shí)踐所呈現(xiàn)的實(shí)施例來學(xué)習(xí)。

根據(jù)一個或多個實(shí)施例，壓力場測繪設(shè)備包括：支撐基板；布置在支撐基板上的多個壓力傳感器，多個壓力傳感器的每一個被配置為響應(yīng)于施加到其上的壓力而輸出信號；防水袋，圍繞支撐基板；及分析器，配置為從多個壓力傳感器的每一個接收信號，并基于所接收的信號實(shí)時輸出支撐基板上的壓力圖。

多個壓力傳感器的每一個可包括上導(dǎo)體層與下導(dǎo)體層，下導(dǎo)體層與上導(dǎo)體層分離并設(shè)置在上導(dǎo)體層下面，上導(dǎo)體層可包括第一導(dǎo)體部與第二導(dǎo)體部，第一導(dǎo)體部包括第一電極而第二導(dǎo)體部包括第二電極，且上導(dǎo)體層可通過施加到壓力傳感器對應(yīng)一個的壓力而變形且可接觸下導(dǎo)體層。

壓力場測繪設(shè)備可進(jìn)一步包括多個引線，連接至多個壓力傳感器的每一個的第一電極與第二電極，多個引線延伸到設(shè)置在支撐基板一側(cè)上的連接器，其中分析器可配置為通過連接器和信號電纜接收信號。

第一導(dǎo)體部與第二導(dǎo)體部可與施加到壓力傳感器對應(yīng)一個的壓力成比例地變形，且第一導(dǎo)體部和第二導(dǎo)體部中的每一個與下導(dǎo)體層接觸的接觸區(qū)域可相應(yīng)地增加。

第一導(dǎo)體部可包括多個平行布置的第一指狀件，且第二導(dǎo)體部可包括多個平行布置的第二指狀件，其中多個第一指狀件與多個第二指狀件可相對于彼此交替地布置。

多個壓力傳感器的每一個可進(jìn)一步包括第一電極與第二電極下方的間隔件，其中間隔件可分隔上導(dǎo)體層與下導(dǎo)體層。

支撐基板可為柔性基板。

多個壓力傳感器可以格子形式布置在支撐基板上。