[發(fā)明專利]用于機(jī)器學(xué)習(xí)輔助的光學(xué)鄰近誤差校正的訓(xùn)練方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880058150.4
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN111051993B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蘇靜;盧彥文;羅亞
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/36;G06F30/392;G06N20/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種用于機(jī)器學(xué)習(xí)輔助的光學(xué)鄰近誤差校正的方法，包括：

獲得訓(xùn)練數(shù)據(jù)集合，所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集合包括與訓(xùn)練設(shè)計圖案的在空間上移位版本對應(yīng)的光學(xué)鄰近校正；和

由硬件計算機(jī)系統(tǒng)，使用關(guān)于所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的在空間上移位版本的數(shù)據(jù)和基于所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的在空間上移位版本的光學(xué)鄰近校正的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練機(jī)器學(xué)習(xí)模型，所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型配置成針對設(shè)計圖案預(yù)測光學(xué)鄰近校正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中空間移位小于所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的圖像的像素柵格的尺寸的大小。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

獲得包括所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的多個以不同方式在空間上移位版本和所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的以不同方式在空間上移位版本的對應(yīng)的光學(xué)鄰近校正的訓(xùn)練數(shù)據(jù)集合；和

使用關(guān)于所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的多個以不同方式在空間上移位版本和所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的以不同方式在空間上移位版本的對應(yīng)的光學(xué)鄰近校正的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括：

從光學(xué)鄰近校正的多個以不同方式在空間上移位版本中選擇相比于所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集合內(nèi)的所述光學(xué)鄰近校正的其它剩余的一個或更多個版本表現(xiàn)出高于平均過程窗口的光學(xué)鄰近校正中的至少一個；和

使用基于所述光學(xué)鄰近校正中的所選擇的一個或更多個光學(xué)鄰近校正的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，包括從光學(xué)鄰近校正的多個以不同方式在空間上移位版本中選擇表現(xiàn)出最佳過程窗口的光學(xué)鄰近校正。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括：

對所選擇的光學(xué)鄰近校正執(zhí)行一個或更多個旋轉(zhuǎn)操作、翻轉(zhuǎn)操作或兩者，以獲得所選擇的光學(xué)鄰近校正的一個或更多個被重新定向的版本；和

使用基于所選擇的光學(xué)鄰近校正中的一個或更多個被重新定向的版本和對應(yīng)的一個或更多個被重新定向的訓(xùn)練設(shè)計圖案的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括：

對所選擇的光學(xué)鄰近校正執(zhí)行一個或更多個空間移位，以獲得所選擇的光學(xué)鄰近校正的一個或更多個以不同方式在空間上移位版本；和

使用基于所選擇的光學(xué)鄰近校正的一個或更多個以不同方式在空間上移位版本和所述訓(xùn)練設(shè)計圖案的對應(yīng)的一個或更多個以不同方式在空間上移位版本的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，針對多個不同的設(shè)計圖案重復(fù)進(jìn)行獲得和訓(xùn)練。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)鄰近校正包括圍繞給定的設(shè)計圖案的主要特征放置輔助特征和/或修改所述給定的設(shè)計圖案的所述主要特征。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)鄰近校正呈圖像的形式，并且所述訓(xùn)練基于所述圖像或所述圖像的像素數(shù)據(jù)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述圖像是

從目標(biāo)設(shè)計圖案圖像再現(xiàn)的灰階圖像，和/或

亞分辨率輔助特征導(dǎo)引圖(SGM)圖，和/或

通過將所述目標(biāo)設(shè)計圖案的圖像與光學(xué)核心進(jìn)行卷積獲得的信號圖像，和/或

所述目標(biāo)設(shè)計圖案的基于模型的掩模優(yōu)化處理的輸出圖像的連續(xù)透射掩模。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

獲得加權(quán)函數(shù)以向設(shè)計圖案的光學(xué)鄰近校正的區(qū)指派與其另外的區(qū)不同的權(quán)重。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述加權(quán)函數(shù)向鄰近于所述設(shè)計圖案的主要特征的區(qū)指派比所述區(qū)外部的區(qū)更高的權(quán)重。