[發(fā)明專利]排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880056746.0
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN111033232A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 克里斯蒂安·賽拉迪;呂克·阿爾巴雷德;亞辛·卡布茲;愛德華·J·麥金納尼;薩珊·羅漢姆
• 申請（專利權(quán)）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: G01N21/3504
• 分類號: G01N21/3504;G01N21/05;G01N33/00;G02B5/08
• 代理公司: 上海勝康律師事務(wù)所 31263
• 代理人: 樊英如;邱曉敏

1.一種排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其能附接至來自處理室的排放泵的排放輸出口，其包括：

氣體腔室，其構(gòu)造成用于接收來自所述排放輸出口的排放物，所述氣體腔室還包含光學(xué)腔，其中所述排放物通過所述光學(xué)腔；

至少一個光學(xué)元件；

光源；

光檢測器，其中所述至少一個光學(xué)元件、所述光源以及所述光檢測器被定位成使得來自所述光源的光束在到達(dá)所述光檢測器之前被導(dǎo)向至所述至少一個光學(xué)元件多次；

至少一個加熱器，其用于向所述至少一個光學(xué)元件提供熱量，使得所述至少一個光學(xué)元件被所述至少一個加熱器加熱；

吹掃氣體源；

多個吹掃氣體噴嘴，其與所述光學(xué)腔流體連接；

高流量管線，其流體連接在所述吹掃氣體源和所述多個吹掃氣體噴嘴之間；

低流量管線，其流體連接在所述吹掃氣體源和所述多個吹掃氣體噴嘴之間，其中所述低流量管線的至少部分與所述高流量管線平行；以及

至少一個流量控制器，其用于管理包含高流量及低流量的多個流率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述至少一個光學(xué)元件包含第一光學(xué)元件，其中所述光束被引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的多個照射區(qū)域，且其中所述多個吹掃氣體噴嘴選擇性地將吹掃氣體引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的所述多個照射區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中該至少一個光學(xué)元件包含鏡。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述吹掃氣體源提供包含N₂、Ar或空氣中的至少一者的氣體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述至少一個光學(xué)元件包含第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件，其中所述第一光學(xué)元件與所述第二光學(xué)元件彼此間隔開，且其中所述光學(xué)腔位于所述第一光學(xué)元件和所述第二光學(xué)元件之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述高流量為脈沖式的，而該低流量為恒定的。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述光源為IR光源，所述光檢測器為IR檢測器，且所述至少一個光學(xué)元件為IR光學(xué)元件。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述至少一個光學(xué)元件包含第一光學(xué)元件，其中所述光束被引導(dǎo)至圍繞所述第一光學(xué)元件的圓周設(shè)置的多個照射區(qū)域，且其中所述多個吹掃氣體噴嘴選擇性地將吹掃氣體引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的所述多個照射區(qū)域。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述至少一個光學(xué)元件包含第一光學(xué)元件，其中所述光束被引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的多個照射區(qū)域，且其中所述多個吹掃氣體噴嘴選擇性地將來自所述吹掃氣體源的吹掃氣體引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的所述多個照射區(qū)域，其中所述吹掃氣體選擇性地清潔所述照射區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述至少一個光學(xué)元件包含第一光學(xué)元件，其中所述光束被引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的所述多個照射區(qū)域，且其中所述多個吹掃氣體噴嘴選擇性地將來自所述吹掃氣體源的吹掃氣體引導(dǎo)至所述第一光學(xué)元件上的所述多個照射區(qū)域，其中所述吹掃氣體選擇性地清潔所述照射區(qū)域并減少所述照射區(qū)域上的沉積。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其中所述高流量為脈沖式的，且所述低流量為脈沖式的。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排放氣體副產(chǎn)物測量系統(tǒng)，其還包含測量控制器，所述測量控制器被連接以接收來自所述光檢測器的輸入，其包含：

至少一個處理器；以及

計算機(jī)可讀介質(zhì)，其包含：

用于接收來自所述光檢測器的輸入的計算機(jī)可讀碼；以及

用于根據(jù)來自所述光檢測器的所述輸入來確定氣體副產(chǎn)物濃度的計算機(jī)可讀碼。