[發明專利]用于清潔處理光氣的裝置的方法

有效

• 申請號: 201880056381.1
• 申請日: 2018-09-03
• 公開（公告）號: CN110997126B
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 明章勇;W.陶貝;毛毅明;蓋玉國
• 申請（專利權）人: 科思創德國股份有限公司
• 主分類號: B01J8/02
• 分類號: B01J8/02;C07C263/10;C07C265/14;C01B32/80
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周蓉;邵長準

1.用于清潔處理光氣的裝置的方法，所述處理光氣的裝置具有至少一個可以被關閉的進料導管和至少一個可以被關閉的排放導管，包括以下步驟：

a)使待清潔的裝置中的壓力降低至小于或等于900絕壓毫巴的值；

b)保留至少一個導管用于氣態氨進料，關閉與待清潔的裝置連接的所有其余導管；

c)通過所述至少一個未關閉的進料導管自氨氣源引入氣態氨，直至在待清潔的裝置中累積大于或等于1.01巴絕壓的預定壓力；

d)連續地或以至多1個小時的間隔測量待清潔的裝置中的壓力，并且一旦所述壓力下降至低于預定值超過5.0%，就通過引入更多的氣態氨來使所述壓力恢復至預定值或至偏離預定值最多± 2.0%的值；

e)一旦待清潔的裝置中的壓力持續大于1.0小時的時間段保持在預定值左右± 5.0%的波動范圍內，就將氨氣源與待清潔的裝置分離，任選地降低所述裝置中的壓力，解除至少一個排放導管的關閉，接著使惰性氣體通過待清潔的裝置。

2.根據權利要求1的方法，其中步驟a)之前是以下步驟：

aa) 使一氧化碳通過待清潔的裝置。

3.根據權利要求1或2的方法，其中，在步驟a)之前進行以下步驟：

ab) 使惰性氣體通過待清潔的裝置。

4.根據權利要求2的方法，其中在步驟a)之前，當進行步驟aa)之后進行以下步驟：

ab) 使惰性氣體通過待清潔的裝置。

5.根據權利要求4的方法，其中，若進行步驟aa)，則在步驟aa)期間，和/或若進行步驟ab)，則在步驟ab)期間和/或在步驟a)期間使待清潔的裝置達到60.0°C至140.0°C范圍內的溫度。

6.根據前述權利要求1的方法，其中，在步驟c)和d)期間使待清潔的裝置達到50.0°C至80.0°C范圍內的溫度。

7.根據前述權利要求1的方法，其中，步驟e)之后是：

f)使含水流通過待清潔的裝置，使水或氨水通過待清潔的裝置，接著通過使空氣或惰性氣體通過而進行干燥。

8.根據權利要求1或2的方法，其中，在步驟e)之后，要么打開待清潔的裝置，要么使其進入操作，而在打開或進入操作之前沒有含水流通過待清潔的裝置。

9.根據權利要求1或2的方法，其中所述待清潔的裝置選自：

用于制備光氣的反應器，

用于使光氣與反應性起始材料反應的反應器，

用于純化使用光氣生產的產物的后處理裝置，和

外圍設備，包括管道和容器。

10.根據權利要求9的方法，其中所述待清潔的裝置是適合用于由一氧化碳和氯氣制備光氣的填充活性炭的反應器。

11.根據權利要求10的方法，其中所述適合用于由一氧化碳和氯氣制備光氣的填充活性炭的反應器是用于通過使光氣反應性起始材料與光氣反應來制備化工產品的生產設備的一部分。

12.根據權利要求11的方法，其中，所述光氣反應性起始材料是具有兩個或更多個酚羥基的化合物，或具有兩個或更多個伯氨基的化合物。

13.根據權利要求11或12的方法，其中，所述用于制備化工產品的生產設備具有n個適合用于由一氧化碳和氯氣制備光氣的反應器，其填充有活性炭并可彼此獨立地進行調節，其中n是2至10的自然數，在m個反應器中由一氧化碳和氯氣制備光氣，其中m是1至n – 1范圍內的自然數，而清潔步驟aa)、任選地ab)、和a)至e)在至少一個反應器中進行。