[發明專利]成像裝置、移動對象以及制造方法

有效

• 申請號: 201880055562.2
• 申請日: 2018-08-15
• 公開（公告）號: CN111052722B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 安部弘行;岡田貴裕
• 申請（專利權）人: 京瓷株式會社
• 主分類號: H04N5/225
• 分類號: H04N5/225;G02B7/02;G03B15/00;G03B17/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 倪斌

1.一種成像裝置，包括：

成像光學系統，包括至少一個光學元件；

保持構件，保持所述成像光學系統；

圖像傳感器，被配置為捕獲由所述成像光學系統形成的主題圖像；

基板，在所述基板上安裝有所述圖像傳感器；以及

接合構件，將集成了所述圖像傳感器和所述基板的基板部固定到保持構件，所述接合構件部分地與所述基板部的表面接觸，并且

在所述基板部的所述表面的與所述接合構件接觸的部分中的至少兩個位置處，所述基板部的所述表面面向不同的方向，

所述保持構件相對于所述基板在與所述成像光學系統的相反側具有面向第一基板表面的至少一部分的第一保持表面，并且相對于所述基板在所述成像光學系統一側具有面向作為所述圖像傳感器的安裝表面的第二基板表面的面向方向的第三保持表面，其中所述第一基板表面面向與所述基板的所述圖像傳感器的安裝表面的面向方向相反的方向，

所述接合構件與所述第一保持表面和所述第三保持表面各自的至少一部分接觸。

2.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，所述接合構件包括：與所述第一基板表面和所述第一保持表面接觸的第一接合構件；以及與所述第二基板表面的周邊部分和所述第三保持表面接觸的第二接合構件。

3.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，

所述基板具有與所述第一基板表面和所述第二基板表面正交的基板側表面，

所述保持構件具有位于所述第一保持表面的槽、以及面向所述基板側表面的保持側表面，

所述接合構件與所述第三保持表面、所述槽、所述保持側表面和所述基板側表面各自的至少一部分接觸。

4.根據權利要求3所述的成像裝置，其中，

所述接合構件不與所述第一基板表面和所述第二基板表面接觸。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的成像裝置，其中，在所述基板部的表面的與所述接合構件接觸的部分中的所述至少兩個位置處，所述基板部的所述表面面向基本相反的方向。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的成像裝置，其中，所述至少兩個位置在構成所述基板部的所述表面的不同平面表面上。

7.根據權利要求6所述的成像裝置，其中，所述保持構件具有多個平面表面，所述多個平面表面與所述接合構件接觸，并且分別面向所述基板部的與所述接合構件接觸的所述不同平面表面。

8.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，所述接合構件包括第一接合構件和與所述第一接合構件不同的第二接合構件，

所述第一接合構件和所述第二接合構件分別與所述基板部的表面的第一接觸部和第二接觸部接觸，所述第二接觸部不同于所述第一接觸部，

所述第一接合構件和所述第二接合構件分別與所述保持構件的所述第一保持表面上的第三接觸部和所述第三保持表面上的第四接觸部接觸，并且

從所述第一接觸部到所述第三接觸部的方向不同于從所述第二接觸部到所述第四接觸部的方向。

9.根據權利要求8所述的成像裝置，其中，所述第一接觸部包括所述第一基板表面的一部分，所述第二接觸部包括所述第二基板表面的一部分。

10.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，所述第一接觸部和所述第二接觸部包括與所述第一基板表面和所述第二基板表面基本正交的基板側表面的至少一部分。

11.根據權利要求8至10中任一項所述的成像裝置，其中，所述第一接合構件和所述第二接合構件在固化時的收縮率或固化后的彈性模量方面彼此不同。

12.根據權利要求11所述的成像裝置，其中，當所述第一接合構件的收縮率或彈性模量比所述第二接合構件低時，所述第一接合構件在所述第一接觸部與所述第三接觸部之間的體積大于所述第二接合構件在所述第二接觸部與所述第四接觸部之間的體積。