[發明專利]用于捕獲在材料路徑上行進的材料的容器

在審

• 申請號: 201880054900.0
• 申請日: 2018-08-10
• 公開（公告）號: CN111034367A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: A·B·里丁格;K·J·斯卡菲迪;M·A·小佩里
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;崔卿虎

1.一種靶材料容器，包括：

包括在第一方向上延伸的通路的結構，所述通路被配置為接收沿靶材料路徑行進的靶材料；以及

偏轉器系統，被配置為從所述通路接收靶材料，所述偏轉器系統包括多個偏轉器元件，其中每個偏轉器元件相對于所述靶材料的實例沿所述靶材料路徑行進的行進方向以第一銳角被定向，并且所述偏轉器系統中的每個偏轉器元件與最近的偏轉器元件沿第二方向分開一定距離，所述第二方向與所述第一方向不同。

2.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中所述結構進一步包括基部，所述基部包括耦合至所述通路的內部。

3.根據權利要求2所述的靶材料容器，其中所述偏轉器系統的至少一部分被定位所述基部的所述內部中，所述基部的側面相對于所述第一方向呈底角角度，并且所述基部的所述側面在所述第二方向上延伸。

4.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中每個偏轉器元件包括相對于所述靶材料路徑以所述第一銳角被定向的第一部分以及從所述第一部分延伸的端部，所述端部包括實質上平行于所述靶材料路徑延伸的尖端。

5.根據權利要求4所述的靶材料容器，其中每個偏轉器元件的所述端部進一步包括包含表面的主體，并且所述主體的所述表面與所述靶材料路徑形成第二銳角。

6.根據權利要求5所述的靶材料容器，其中所述第二銳角等于或小于所述第一銳角。

7.根據權利要求4所述的靶材料容器，其中每個偏轉器元件的所述第一部分包括在第一平面中延伸的板，所述板在所述第一平面中具有第一范圍并且在第二平面中具有第二范圍，所述第二平面正交于所述第一平面并且所述第二范圍小于所述第一范圍。

8.根據權利要求4所述的靶材料容器，其中所述靶材料的實例是實質上球形的并且具有直徑，每個尖端具有被配置為與所述靶材料的實例相互作用的表面，所述尖端的所述表面在至少一個方向上具有小于所述靶材料的實例的所述直徑的范圍。

9.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中每個偏轉器元件包括至少一個表面特征，所述至少一個表面特征被配置為減少靶材料對所述偏轉器元件的表面的粘附，所述表面特征包括紋波、具有特定粗糙度的區域、經氧化的區域、凹槽的圖案和/或與所述偏轉器元件的所述表面的其他部分中使用的材料不同的材料的涂層。

10.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中在任何兩個相鄰的偏轉器元件之間沿所述第二方向的所述距離相同。

11.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中對于所有所述偏轉器元件，所述第一銳角相同。

12.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中每個偏轉器元件是板，并且所述偏轉器元件沿所述第二方向分開，使得所述板中的任一個均平行于所有其他板。

13.根據權利要求1所述的靶材料容器，其中所述靶材料容器被配置為用于極紫外(EUV)光源中，并且所述靶材料包括當處于等離子體狀態時發射EUV光的材料。

14.一種極紫外(EUV)光源，包括：

光源，被配置為產生光束；

器皿，被配置為在等離子體形成位置處接收所述光束；

供給系統，被配置為產生沿靶標路徑朝向所述等離子體形成位置行進的靶標；以及

靶材料容器，包括：

包括在第一方向上延伸的通路的結構，所述通路被定位為接收在所述靶標路徑上行進的并且穿過所述等離子體形成位置的靶標；以及

偏轉器系統，被配置為從所述通路接收靶標，所述偏轉器系統包括多個偏轉器元件，其中每個偏轉器元件相對于材料的實例沿所述靶材料路徑行進的行進方向以第一銳角被定向，并且所述偏轉器系統中的每個偏轉器元件與最近的偏轉器元件沿第二方向分開一定距離，所述第二方向與所述第一方向不同。