[發(fā)明專利]雜富勒烯以及使用了其的n型半導(dǎo)體膜和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880054420.4 | 申請日: | 2018-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN111032567B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 松澤伸行;笹子勝;中順一 | 申請(專利權(quán))人: | 松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社 |
| 主分類號: | C01B32/156 | 分類號: | C01B32/156;B82Y30/00;B82Y40/00;H01L29/786;H10K50/805;H10K10/46;H10K85/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雜富勒烯 以及 使用 半導(dǎo)體 電子設(shè)備 | ||
1.一種雜富勒烯,其是將構(gòu)成富勒烯C60的n個碳原子用n個硼原子取代而得的雜富勒烯,所述n為6、8、10、12之中的任意者,
n為6時,該6個硼原子的取代位置為1,3,7,13,50,60位、1,7,41,50,57,60位、1,7,28,31,50,60位和1,7,21,38,50,60位之中的任意者,
n為8時,該8個硼原子的取代位置為1,3,7,13,41,50,57,60位和1,7,21,28,31,38,50,60位之中的任意者,
n為10時,該10個硼原子的取代位置為1,3,7,13,21,38,41,50,57,60位、1,3,7,13,28,31,41,50,57,60位、1,3,7,13,21,28,31,38,50,60位和1,7,21,28,31,38,41,50,57,60位之中的任意者,
n為12時,該12個硼原子的取代位置為1,3,7,13,21,28,31,38,41,50,57,60位。
2.一種雜富勒烯,其是將構(gòu)成富勒烯C70的n個碳原子用n個硼原子取代而成的雜富勒烯,所述n為2、4之中的任意者,
n為2時,該2個硼原子的取代位置為1,70位,
n為4時,該4個硼原子的取代位置為1,4,60,70位。
3.一種n型半導(dǎo)體膜,其包含權(quán)利要求1或2所述的雜富勒烯。
4.一種電子設(shè)備,其使用權(quán)利要求1或2所述的雜富勒烯作為n型半導(dǎo)體。
5.一種電子設(shè)備,其具備源電極、漏電極、柵電極和n型半導(dǎo)體膜,
所述n型半導(dǎo)體膜包含權(quán)利要求1或2所述的雜富勒烯。
6.一種n型半導(dǎo)體膜,其為包含雜富勒烯的n型半導(dǎo)體膜,
對于所述雜富勒烯而言,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該2個硼原子的取代位置為1,16位、1,50位、1,60位、1,57位和1,31位之中的任意者,
將構(gòu)成富勒烯C60的4個碳原子用4個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該4個硼原子的取代位置為1,7,50,60位,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個氮原子取代而成的雜富勒烯時,所述2個氮原子的取代位置為1,60位或1,7位。
7.一種電子設(shè)備,其為使用雜富勒烯作為n型半導(dǎo)體的電子設(shè)備,
對于所述雜富勒烯而言,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該2個硼原子的取代位置為1,16位、1,50位、1,60位、1,57位和1,31位之中的任意者,
將構(gòu)成富勒烯C60的4個碳原子用4個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該4個硼原子的取代位置為1,7,50,60位,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個氮原子取代而成的雜富勒烯時,所述2個氮原子的取代位置為1,60位或1,7位。
8.一種電子設(shè)備,其為具備源電極、漏電極、柵電極和n型半導(dǎo)體膜的電子設(shè)備,
所述n型半導(dǎo)體膜包含雜富勒烯,
對于所述雜富勒烯而言,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該2個硼原子的取代位置為1,16位、1,50位、1,60位、1,57位和1,31位之中的任意者,
將構(gòu)成富勒烯C60的4個碳原子用4個硼原子取代而成的雜富勒烯時,該4個硼原子的取代位置為1,7,50,60位,
將構(gòu)成富勒烯C60的2個碳原子用2個氮原子取代而成的雜富勒烯時,所述2個氮原子的取代位置為1,60位或1,7位。
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