[發(fā)明專利]使用鎳鈦合金的抗血栓性醫(yī)療材料

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880054054.2
• 申請(qǐng)日: 2018-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN110944687B
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柿山創(chuàng);門脅功治;棚橋一裕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東麗株式會(huì)社
• 主分類號(hào): A61L33/10
• 分類號(hào): A61L33/10;A61K31/343;A61K31/4164;A61K31/7076;A61K31/727;A61K31/737;A61K31/795;A61K38/05;A61K47/58;A61K47/59;A61K47/61;A61K47/62;A61L27/06
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 蔡曉菡;梅黎

1.抗血栓性醫(yī)療材料，其中，在鎳鈦合金的表面鍵合有高分子電解質(zhì)，

前述高分子電解質(zhì)上鍵合有具有與該高分子電解質(zhì)相反的電荷的抗血栓性化合物，

鎳鈦合金的表面存在多孔層，孔的內(nèi)部浸潤(rùn)高分子電解質(zhì)，

如果使用X射線光電子能譜法(XPS)測(cè)定則滿足以下的式1，利用X射線光電子能譜法(XPS)的測(cè)定在光電子的檢測(cè)角度為45°時(shí)、檢出從抗血栓性醫(yī)療材料的表面到5nm左右的元素的條件下進(jìn)行，

如果使用俄歇電子能譜法(AES)測(cè)定則滿足以下的式2，

Ti_ratio,XPS2 ???式1

式1中，Ti_raitio,XPS表示通過(guò)XPS測(cè)定時(shí)醫(yī)療材料表面的鈦元素相對(duì)于所有元素的存在量的存在比率(原子數(shù)%),

C_ratio,AES≥ 7 ???式2

式2中，C_ratio,AES表示換算為SiO₂進(jìn)行了20nm氬離子蝕刻的醫(yī)療材料表面的碳元素相對(duì)于所有元素的存在量的存在比率(原子數(shù)%)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，前述高分子電解質(zhì)為含有選自烯化亞胺、乙烯胺、烯丙胺、賴氨酸、精氨酸、組氨酸、魚精蛋白、葡糖胺和二烯丙基二甲基氯化銨中的單體的陽(yáng)離子性聚合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，前述高分子電解質(zhì)為含有選自丙烯酸、α-羥基丙烯酸、乙烯基乙酸、乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、乙烯基膦酸、烯丙基膦酸、天冬氨酸、谷氨酸中的單體的陰離子性聚合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，前述抗血栓性化合物選自肝素、肝素衍生物、硫酸葡聚糖、聚乙烯基磺酸、聚苯乙烯磺酸、阿加曲班、貝前列素鈉、奧扎格雷和坎格雷洛。

5.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，如果使用俄歇電子能譜法(AES)測(cè)定則滿足以下的式3，

氬離子蝕刻深度換算為SiO₂是20nm以上，

O_ratio/Max(O_ratio) = 0.5 ???式3

式3中，O_ratio表示進(jìn)行了氬離子蝕刻的醫(yī)療材料表面中氧元素相對(duì)于所有元素的存在量的存在比率(原子數(shù)%)，Max(O_ratio)表示O_ratio的最大值。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，如果使用俄歇電子能譜法(AES)測(cè)定則滿足以下的式3，

氬離子蝕刻深度換算為SiO₂是20nm以上，

O_ratio/Max(O_ratio) = 0.5 ???式3

式3中，O_ratio表示進(jìn)行了氬離子蝕刻的醫(yī)療材料表面中氧元素相對(duì)于所有元素的存在量的存在比率(原子數(shù)%)，Max(O_ratio)表示O_ratio的最大值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗血栓性醫(yī)療材料，其中，鎳鈦合金的表面具有多孔層，該多孔層的表層的孔徑為1nm~1μm。