[發明專利]浸漬顯微鏡檢查

有效

• 申請號: 201880053898.5
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN111051956B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 托馬斯·奧特;邁克爾·古格拉;托爾斯滕·庫斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司顯微鏡有限責任公司
• 主分類號: G02B21/33
• 分類號: G02B21/33;G02B21/34;B05D5/04;G02B27/00
• 代理公司: 北京市創世宏景專利商標代理有限責任公司 11493
• 代理人: 崔永華

本發明涉及一種用于使用顯微鏡對樣本成像的顯微鏡物鏡，所述顯微鏡物鏡(7)具有由支架(8b)圍繞的前透鏡(8)，并且被設計用于在浸漬液體(9)的情況下的顯微鏡檢查。在所述顯微鏡物鏡中，所述前透鏡(8)和/或其支架(8b)設置有涂層(10)，所述涂層(10)可以在排斥所述浸漬液體(9)的狀態與不排斥所述浸漬液體(9)的狀態之間切換。

發明領域

本發明涉及一種用于使用顯微鏡對樣品成像的顯微鏡物鏡，其中，顯微鏡物鏡包括被支架圍繞的前透鏡并且被實施用于在浸漬液體的情況下的顯微鏡檢查。此外，本發明涉及一種用于通過浸漬顯微鏡檢查來檢查要設置在樣品載體上或蓋玻片下的樣品的樣品載體或蓋玻片。本發明同樣涉及一種用于在顯微鏡檢查過程中使用浸漬顯微鏡通過顯微鏡檢查來檢查樣品的方法，其中使用包括由支架圍繞的前透鏡的顯微鏡物鏡。最后，本發明還涉及一種包括前述類型的顯微鏡物鏡的浸漬顯微鏡。

背景技術

現有技術已經公開了用于確保顯微鏡物鏡的前透鏡用浸漬介質盡可能完全地潤濕的各種方法。EP 1717628 A1和EP 2256535 A1公開了一種用于倒置顯微鏡物鏡(即，從下方通過顯微鏡檢查來檢查樣品的顯微鏡物鏡)的機構。在物鏡殼體的前邊緣上設置了機構，所述機構防止放置在前透鏡上的浸漬液滴在物鏡殼體的前邊緣上方流走。此外，提供了以目標方式向下排出浸漬液體的流出管。邊緣的內部區域被配置成排斥顯微鏡被設計用于其的浸漬液體。周圍的外部區域以完全相反的方式來配置，并且因此它將到達它的浸漬液體排出到外部。參考進一步的公開，JP 4603295討論了避免物鏡內部被浸漬液體污染的各種概念。其中描述的兩種解決方案對應于指定EP文獻的解決方案。在日本公開中描述的第三種解決方案在物鏡上設置凹槽，所述凹槽防止過量的浸漬液體流入物鏡中。此外，對于基于油浸的顯微鏡，JP 4603295提出了在透鏡表面上的親脂性涂層，所述親脂性涂層被透鏡表面的邊緣上的疏脂性涂層包圍。因此，現有技術涉及避免物鏡被浸漬液體污染的各種方法或以目標方式排出過量浸漬液體。

當使用浸漬介質時，特別是在掃描顯微鏡檢查的情況下，出現困難。物鏡能夠在樣品上方移位的行進速度受到在太高的移動速度下產生剪切力的事實的限制，所述剪切力可能導致浸漬膜撕裂或導致彈性浸漬介質的不可接納變形。在彈性浸漬介質的情況下，過大的剪切力有時可以使蓋玻片移位，并因此導致樣品被破壞。未完全固定的樣品保持器也可以以這種方式移位，從而使得不可能再次接近樣品中定義的坐標。這些問題只能通過在顯微鏡檢查過程開始時使用過量的浸漬介質來抵消，以便補償由于行進速度和所形成的剪切力而導致的浸漬介質損失或變形的事實，從而導致光束路徑的部分沒有浸漬介質。然而，因此，樣品變得被浸漬介質污染，并且浸漬介質消耗有時相當高，這是昂貴的。

特別是在可以與不同的浸漬液體一起使用的顯微鏡物鏡的情況下，對于使用者來說，移除浸漬液體是冗長乏味的。物鏡被浸漬液體污染是一個問題。受污染的浸漬物鏡導致差的成像質量，不適合于當前顯微鏡檢查過程的浸漬液體的殘留物粘附到所述受污染的浸漬物鏡。

發明內容

因此，本發明基于確保顯微鏡檢查中一致的高成像質量的目標。

在獨立權利要求中定義了本發明。從屬權利要求定義了優選的配置。

用于使用浸漬顯微鏡對樣品成像的顯微鏡物鏡包括前透鏡。這由支架圍繞。其被實施為用浸漬液體的顯微鏡檢查。前側(例如，所述前透鏡和/或其支架)可以在排斥所述浸漬液體的狀態與不排斥或甚至吸引所述浸漬液體的狀態之間切換。作為替代方案或除此之外，樣品載體或蓋玻片具有這樣的配置。這在每種情況下可以通過表面處理來實現，所述表面處理賦予所期望的、可切換的排斥性質。該處理可以是涂層。同樣地，結構可以引入到表面中，所述結構產生所述性質，或者所述表面可以以一些其它方式(舉例來說，化學地)處理，以便獲得所述性質。就下文提到的涂層來說，這純粹是以實例方式。