[發明專利]用于精確評估被測設備的方法和測量系統

有效

• 申請號: 201880051665.1
• 申請日: 2018-06-14
• 公開（公告）號: CN110999134B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發明（設計）人: 保羅·西蒙·霍特·萊瑟;拉梅茲·阿斯卡;阪口啟;托馬斯·赫斯騰;萊塞克·拉施科夫斯基
• 申請（專利權）人: 弗勞恩霍夫應用研究促進協會
• 主分類號: H04B17/10
• 分類號: H04B17/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 羅松梅

1.一種用于評估被測設備的方法(100)，包括：

定義(110)被測設備DUT(30；70)的輻射中心參考CORR(52)，所述CORR(52)指示能夠利用所述DUT(30)形成的電磁波圖案(56)的參考原點(54)；

確定(120)相對于所述CORR(52)的3維取向信息，所述3維取向信息指示所述電磁波圖案(56)的方向(58)；以及

向測量系統(80；80')提供(130)所述CORR(52)和所述3維取向信息，

其中所述CORR(52)被布置在當與所述參考原點(54)相比較時的不同的位置處并且包括關于所述CORR(52)和所述參考原點(54)之間的偏移的信息。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，定義所述CORR(52)包括：

確定(210)所述DUT(30；70)處的一組參考標記(32)，所述一組參考標記(32)在查看所述DUT(30；70)時是可見的或能夠從所述DUT外部訪問；

使用一組參考標記(32)定義(220)坐標系(36)；以及

在所述坐標系(36)內定義(230)所述CORR(52)。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述一組參考標記(32)包括紫外線標記、紅外標記、溫度的使用或嵌入式磁源。

4.根據權利要求2所述的方法，其中，所述一組參考標記(32)包括以下項中的至少一項：在所述DUT(30；70)的顯示器上顯示的光信號圖案(68)、所述DUT(30；70)的透鏡、所述DUT(30；70)的發光器件、所述DUT(30；70)的電端口、電磁或磁圖案、聲學端口、所述DUT(30；70)的殼體的面、平面、角部和邊緣。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，至少第一和第二CORR(52)被限定在所述DUT(30；70)的內部和/或外部和/或表面處的不同位置處，其中，至少對于所述第一和第二CORR，針對單個波束確定3維取向信息。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，所述CORR被定義為與所述DUT(30；70)的標記相關。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，定義所述CORR包括：

定義(410)能夠利用所述DUT(30；70)形成的一組電磁波圖案(56)，所述一組電磁波圖案包括所述電磁波圖案(56)；以及

對于所述一組電磁波圖案中的每個電磁波圖案(56)，確定所述電磁波圖案(56)的參考原點(54)相對于所述CORR(52)的偏移。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，確定三維取向信息包括：

定義(410)能夠利用所述DUT(30；70)形成的一組電磁波圖案(56)，所述一組電磁波圖案包括電磁波圖案(56)；以及

確定(420)所述電磁波圖案(56)的方向(58)相對于參考方向的方向偏差；

使得所述三維取向信息允許指示所述電磁波圖案(56)相對于所述CORR(52)的參考原點(54)和方向(58)。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，所述電磁波圖案(56)能夠利用所述DUT(30；70)的至少第一天線陣列(44₁)和第二天線陣列(44₂)形成。