[發明專利]熒光X射線分析的測定方法以及熒光X射線分析的測定裝置

有效

• 申請號: 201880050982.1
• 申請日: 2018-07-05
• 公開（公告）號: CN110998300B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 石丸真次
• 申請（專利權）人: 上村工業株式會社
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明的目的在于提供一種能夠高精度地測定含有多種添加劑和金屬的被測定液中包含的各種金屬濃度的測定方法以及測定裝置。一種熒光X射線分析的測定方法，基于熒光X射線強度測定值來測定含有1種以上的添加劑和金屬的被測定液中包含的測定對象金屬的各種金屬濃度，該測定方法包括以下工序：校準曲線多項式決定工序(S11)，決定測定對象金屬的校準曲線的多項式近似式；液體種類校正多項式決定工序(S12)，決定用于針對測定對象金屬的熒光X射線強度測定值校正因含有添加劑而引起的測定值的誤差的多項式近似式；比重校正多項式決定工序(S13)，決定用于針對測定對象金屬的熒光X射線強度測定值校正由被測定液的比重的差異引起的測定值的誤差的多項式近似式；以及金屬濃度測定工序(S14)，使用通過校準曲線多項式決定工序、液體種類校正多項式決定工序以及比重校正多項式決定工序決定的多項式近似式，來測定測定對象金屬的各種金屬濃度。

技術領域

本發明涉及一種通過熒光X射線分析來測定含有多種添加劑和金屬的被測定液中包含的測定對象金屬的各種金屬濃度的測定方法以及通過熒光X射線分析來測定各種金屬濃度的測定裝置。本申請以2017年8月7日在日本申請的日本專利申請特愿2017-152517為基礎來要求優先權，通過參照該申請而被本申請引用。

背景技術

為了對在電子學領域中使用的電鍍液等被測定液中包含的各種金屬濃度進行測定，使用熒光X射線分析。在大多情況下，在被測定液中不僅含有金屬成分，還含有多種添加劑成分。在對這樣的被測定液中包含的各種金屬濃度進行測定的情況下，測定對象成分的熒光X射線強度受到由測定對象外的添加劑等引起的X射線的衰減的影響。

因此，為了測定各種金屬濃度，需要使用校準曲線并根據X射線強度進行與X射線的特性相應的強度的校正。

例如，在專利文獻1中，求出以電鍍液中包含的各種金屬濃度和關于各成分的熒光X射線強度為變量來表示它們的關系的聯立方程式的常數，根據對各成分的濃度已知的標準試樣測定熒光X射線強度得到的結果，來求出各種金屬濃度。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特公平3-32735號公報

發明內容

發明要解決的問題

然而，在上述方法中，即使在測定對象物質相同的情況下，在每個液體種類中含有的添加劑的成分種類或混合比率不同、各種金屬或添加劑的濃度發生變化時，也無法高精度地測定各種金屬濃度。

因此，本發明的目的在于提供一種能夠高精度地測定含有多種添加劑和金屬的被測定液中包含的各種金屬濃度的測定方法以及測定裝置。

用于解決問題的方案

本發明的一個方式所涉及的測定方法是一種熒光X射線分析的測定方法，基于熒光X射線強度測定值來測定含有1種以上的添加劑和金屬的被測定液中包含的測定對象金屬的各種金屬濃度，所述熒光X射線分析的測定方法包括以下工序：校準曲線多項式決定工序，決定所述測定對象金屬的校準曲線的多項式近似式；液體種類校正多項式決定工序，決定用于針對所述測定對象金屬的所述熒光X射線強度測定值校正因含有所述添加劑而引起的測定值的誤差的多項式近似式；比重校正多項式決定工序，決定用于針對所述測定對象金屬的所述熒光X射線強度測定值校正由所述被測定液的比重的差異引起的測定值的誤差的多項式近似式；以及金屬濃度測定工序，使用通過所述校準曲線多項式決定工序、所述液體種類校正多項式決定工序以及所述比重校正多項式決定工序決定的多項式近似式，來測定所述測定對象金屬的各種金屬濃度。

如果這樣，則能夠高精度地測定含有多種添加劑和金屬的被測定液中包含的各種金屬濃度。