[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)電機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880048681.5 | 申請日: | 2018-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN110945755B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高橋裕樹;谷口真 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社電裝 |
| 主分類號: | H02K3/04 | 分類號: | H02K3/04;H02K3/34 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 胡曼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋轉(zhuǎn) 電機(jī) | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)電機(jī)(10),包括:
磁場發(fā)生單元(40),該磁場發(fā)生單元具有筒狀的磁體單元(42),該磁體單元包括了具有N極和S極的多個磁極,N極和S極在磁體單元(42)的周向上交替配置;
電樞(50),該電樞具有多相的電樞繞組(51);以及
轉(zhuǎn)子,該轉(zhuǎn)子由所述磁場發(fā)生單元和所述電樞中的任意一個構(gòu)成,
所述磁體單元具有第一部分(250)和第二部分(260),所述第一部分比所述第二部分靠近dq軸坐標(biāo)系的d軸,所述第二部分比所述第一部分靠近dq軸坐標(biāo)系的q軸,
所述磁體單元磁取向成滿足以下條件:所述第一部分的易磁化軸(300)和所述d軸所成的角度(θ11)小于所述第二部分的易磁化軸(310)和所述q軸所成的角度(θ12),
所述磁場發(fā)生單元構(gòu)成為內(nèi)稟矯頑力是400kA/m,殘留磁通密度在1.0T以上,
所述電樞繞組具有多個導(dǎo)電構(gòu)件(81、82),多個該導(dǎo)電構(gòu)件與所述磁場發(fā)生單元相對并且在所述電樞的周向上空開規(guī)定間隔地配置,
所述電樞繞組形成為具有規(guī)定的第一尺寸和第二尺寸,所述第一尺寸是在所述電樞的徑向上互相相對的外側(cè)面與內(nèi)側(cè)面之間的距離,所述第二尺寸是作為所述電樞的多相之一發(fā)揮作用的所述電樞繞組的一部分在所述電樞的周向上的長度,所述第一尺寸小于所述第二尺寸,
具有分別配置于所述電樞繞組的互相相鄰的所述導(dǎo)電構(gòu)件之間的多個導(dǎo)線間構(gòu)件(142),在將所述電樞繞組的、存在于范圍(Wn)內(nèi)的所述導(dǎo)線間構(gòu)件的總計寬度設(shè)為Wt,所述導(dǎo)線間構(gòu)件的飽和磁通密度設(shè)為Bs,將生成所述磁極之一的所述磁體單元的一部分的、所述磁體單元在周向上的尺寸設(shè)為Wm,所述磁體單元的殘留磁通密度設(shè)為Br的情況下,所述導(dǎo)線間構(gòu)件由滿足Wt×Bs≤Wm×Br的關(guān)系的構(gòu)件形成,所述范圍(Wn)對應(yīng)于和所述磁體單元的磁極之一一起發(fā)揮磁作用并且在所述電樞的周向上延伸的所述電樞的部分(350)的尺寸,
或者構(gòu)成為,所述導(dǎo)電構(gòu)件在所述電樞的周向上空開規(guī)定間隔地配置,在互相相鄰的導(dǎo)電構(gòu)件之間配置有非磁性體(57、143),該非磁性體將所述規(guī)定間隔全部占據(jù),
所述導(dǎo)電構(gòu)件分別由捆扎的多個線材(86)構(gòu)成,
所述導(dǎo)電構(gòu)件的各自的所述線材在互相接觸狀態(tài)下相鄰,相鄰的各兩個所述線材在相鄰的方向上具有第一電阻率,所述線材分別在長度方向上具有第二電阻率,所述第一電阻率大于所述第二電阻率。
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