[發明專利]石墨烯的納米窗口結構和高純度氣體的制造方法在審
| 申請號： | 201880046216.8 | 申請日： | 2018-07-04 |
| 公開（公告）號： | CN110869109A | 公開（公告）日： | 2020-03-06 |
| 發明（設計）人： | 金子克美;F·瓦耶喬斯-伯果斯;高城壽雄;村田克之 | 申請（專利權）人： | 國立大學法人信州大學;株式會社壽通商 |
| 主分類號： | B01D71/02 | 分類號： | B01D71/02;C01B32/194 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 張智慧 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石墨 納米 窗口 結構 純度 氣體 制造 方法 | ||
1.石墨烯的納米窗口結構，其特征在于，具有：石墨烯中缺少一部分碳原子而形成的納米窗口、和置換了構成該納米窗口的邊框的1個以上的碳原子的1個以上的雜原子，
利用所述雜原子在納米窗口內部誘發靜電場，
與具有比所述納米窗口大的范德華半徑的透過分子配合從而所述納米窗口的邊框張弛，能夠使所述透過分子透過。
2.石墨烯的納米窗口結構，其特征在于，具有：石墨烯中缺少一部分碳原子而形成的納米窗口、和置換了構成該納米窗口的邊框的1個以上的碳原子的1個以上的雜原子，
利用所述雜原子在納米窗口的邊框誘發呼吸振動，
與具有比所述納米窗口大的范德華半徑的透過分子配合從而所述納米窗口的邊框張弛，能夠使所述透過分子透過。
3.石墨烯的納米窗口結構，其特征在于，具有：石墨烯中缺少一部分碳原子而形成的納米窗口、和在構成該納米窗口的邊框的1個以上的碳原子上加成的1個以上的官能團，
利用所述官能團在納米窗口內部誘發靜電場，
與具有比所述納米窗口大的范德華半徑的透過分子配合從而所述納米窗口的邊框張弛，能夠使所述透過分子透過。
4.石墨烯的納米窗口結構，其特征在于，具有：石墨烯中缺少一部分碳原子而形成的納米窗口、和在構成該納米窗口的邊框的1個以上的碳原子上加成的1個以上的官能團，
利用所述官能團在納米窗口的邊框誘發呼吸振動，
與具有比所述納米窗口大的范德華半徑的透過分子配合從而所述納米窗口的邊框張弛，能夠使所述透過分子透過。
5.根據權利要求3或4所述的石墨烯的納米窗口結構，其特征在于，能夠切換開狀態和閉狀態，其中，
所述開狀態能夠使所述透過分子透過，所述閉狀態從所述透過狀態利用使所述官能團的方向旋轉而成的靜電場使所述透過分子不透過。
6.高純度氣體的制造方法，是從包含透過分子和非透過分子的混合氣體中取出透過分子的高純度氣體的制造方法，其特征在于，
將所述混合氣體供給至石墨烯，所述石墨烯具有范德華半徑比所述透過分子和所述非透過分子小的納米窗口，并且在該納米窗口的邊框具有與所述透過分子配合的官能團、雜原子或缺陷部中的1個以上；
通過所述透過分子與所述官能團、所述雜原子或所述缺陷部的配合引起的所述納米窗口的張弛，使所述透過分子透過所述納米窗口，并且使所述非透過分子不透過；
將透過所述納米窗口的所述透過分子回收。
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