[發(fā)明專利]電化學(xué)元件用電極及電化學(xué)元件、以及電化學(xué)元件用電極的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880045691.3 | 申請日: | 2018-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN110870103B | 公開(公告)日: | 2022-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 一色康博;園部健矢 | 申請(專利權(quán))人: | 日本瑞翁株式會社 |
| 主分類號: | H01M4/02 | 分類號: | H01M4/02;H01G11/30;H01G11/38;H01G11/86;H01M4/04;H01M4/13;H01M4/139;H01M4/62 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 楊衛(wèi)萍;劉繼富 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電化學(xué) 元件 用電 以及 制造 方法 | ||
1.一種電化學(xué)元件用電極,其具有:集流體及在所述集流體上的電極復(fù)合材料層,
所述電極復(fù)合材料層包含電極活性物質(zhì)、粘結(jié)材料和發(fā)泡劑,
所述粘結(jié)材料為包含二烯系單體單元和含腈基單體單元中的至少一種的聚合物,所述二烯系單體單元占所述聚合物的比例與所述含腈基單體單元占所述聚合物的比例的合計(jì)為10質(zhì)量%以上且80質(zhì)量%以下,
所述電極復(fù)合材料層與所述集流體的層疊體在25℃的體積電阻率RA為0.1Ω·cm以上且200Ω·cm以下,所述層疊體在350℃的體積電阻率RB與所述層疊體在25℃的體積電阻率RA的比為10以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)元件用電極,其中,所述發(fā)泡劑的發(fā)泡溫度為100℃以上且350℃以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化學(xué)元件用電極,其中,相對于每100質(zhì)量份的所述電極活性物質(zhì),所述電極復(fù)合材料層包含0.01質(zhì)量份以上且10質(zhì)量份以下的所述發(fā)泡劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化學(xué)元件用電極,其中,所述發(fā)泡劑為氮系有機(jī)發(fā)泡劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化學(xué)元件用電極,其中,所述聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為-30℃以上且100℃以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化學(xué)元件用電極,其中,所述電極活性物質(zhì)為正極活性物質(zhì),
所述層疊體在25℃的體積電阻率RA為10Ω·cm以上且180Ω·cm以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化學(xué)元件用電極,其中,所述電極活性物質(zhì)為負(fù)極活性物質(zhì),
所述層疊體在25℃的體積電阻率RA為0.2Ω·cm以上且50Ω·cm以下。
8.一種電化學(xué)元件,具有權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)元件用電極。
9.一種制造權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)元件用電極的方法,包含:
將含有所述電極活性物質(zhì)、所述粘結(jié)材料、所述發(fā)泡劑和溶劑的電極復(fù)合材料層用漿料組合物涂布在所述集流體上的工序;及
將涂布在所述集流體上的所述電極復(fù)合材料層用漿料組合物在溫度50℃以上且130℃以下干燥,形成電極復(fù)合材料層的工序。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本瑞翁株式會社,未經(jīng)日本瑞翁株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880045691.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





