[發明專利]從加氫裂化器料流中動電分離固體粒子

在審

• 申請號: 201880045457.0
• 申請日: 2018-06-25
• 公開（公告）號: CN110869471A
• 公開（公告）日: 2020-03-06
• 發明（設計）人: 艾維·D·約翰遜;布彭德爾·S·米尼亞斯;杰西卡·維特曼;薩拉·L·約埃;托馬斯·布魯諾
• 申請（專利權）人: 埃克森美孚研究工程公司
• 主分類號: C10G32/02
• 分類號: C10G32/02;B01D35/06;B03C5/00;C10G67/02
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 郭國清;宮方斌

1.一種用于減少烴工藝料流中的微粒的方法，所述烴工藝料流包含加氫裂化器進料流或加氫裂化產物流和微粒，所述方法包括通過使所述烴工藝料流通過至少一個動電分離器(EKS)而從所述烴工藝料流中除去至少一部分的所述微粒，以形成微粒減少的烴流。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述烴工藝料流是加氫裂化器的進料流。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述烴工藝料流是離開加氫裂化器的加氫裂化產物。

4.根據權利要求1至3中的任一項所述的方法，所述方法還包括用亞微米過濾器來過濾所述微粒減少的烴流。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述微粒的減少使所述過濾器減負并縮短了所述過濾器的再生時間。

6.根據權利要求1至5中的任一項所述的方法，所述方法還包括用水力旋流器系統或離心機系統處理所述微粒減少的烴流作為拋光步驟。

7.根據權利要求1至6中的任一項所述的方法，所述方法還包括使所述烴流通過所述EKS上游的水力旋流器，或者使所述烴流通過所述EKS上游的過濾系統，或者甚至使所述烴流通過所述EKS上游的離心機系統。

8.根據權利要求1至7中的任一項所述的方法，其中所述微粒具有在約0.1微米至約1微米的范圍內的平均粒度。

9.根據權利要求1至8中的任一項所述的方法，其中通過熱甲苯過濾/洗滌方案ASTM方法D4807-05測量，所述微粒的至少50重量％源自烴加工催化劑。

10.根據權利要求1至9中的任一項所述的方法，其中所述微粒包括源自催化劑的粒子、粘土、源自反應器設備的粒子以及源自所述EKS之前的反應后處理的粒子。

11.根據權利要求1至10中的任一項所述的方法，其中所述EKS包括至少兩個施加電場的具有不同電位的相對電極，以及設置在所述電極之間的EKS介質，其中所述EKS介質包括纖維、織物、薄片、泡沫、團粒、珠粒、線材或其組合物。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述EKS介質包括織物，并且所述工藝料流流過至少部分地由所述織物形成的通道。

13.根據權利要求11所述的方法，其中所述EKS介質包括由選自無機玻璃、陶瓷、玻璃-陶瓷、無機氧化物及其混合物和組合物的材料制成的團粒。

14.根據權利要求11至13中的任一項所述的方法，所述方法還包括使所述EKS介質再生的步驟，例如通過將所述微粒減少的烴流的一部分再循環至所述EKS來洗滌所述EKS介質，從而除去在所述EKS介質中收集的所述粒子的至少一部分，或通過使用工藝相容性洗滌液來洗滌所述EKS介質以除去在所述EKS介質中收集的所述粒子的至少一部分。

15.根據權利要求14所述的方法，其中所述工藝相容性洗滌液選自空氣、氮氣、含烴液體及其組合物。

16.根據權利要求1至15中的任一項所述的方法，其中以與所述烴工藝料流的流動方向不同的方向來除去所述微粒。

17.一種系統，所述系統包括：

加氫裂化器；和

動電分離器(EKS)，

其中所述EKS被配置成從加氫裂化器進料流中除去至少一部分微粒以形成微粒減少的烴流，并且所述EKS被配置成將所述微粒減少的烴流進料至所述加氫裂化器。