[發(fā)明專利]噴墨頭、噴墨記錄裝置以及噴墨頭的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880045374.1
• 申請日: 2018-05-30
• 公開（公告）號: CN110831769B
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤洋平;下村明久;鈴木綾子;江口秀幸;山田晃久
• 申請（專利權(quán)）人: 柯尼卡美能達(dá)株式會社
• 主分類號: B41J2/16
• 分類號: B41J2/16;B41J2/01;B41J2/14
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 金春實(shí)

防止噴嘴基板的射出面?zhèn)鹊木芤盒越档?。噴墨記錄裝置的噴墨頭具備噴嘴基板(40A)。噴嘴基板(40A)具有：基板部(41)，形成有射出墨的噴嘴(2411)；拒液膜基底層(42A)，形成于基板部(41)的射出面?zhèn)?，至少在表面具有硅氮化膜或者硅氧氮化膜；以及拒液?43)，形成于拒液膜基底層(42A)的射出面?zhèn)取?/p>

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及噴墨頭、噴墨記錄裝置以及噴墨頭的制造方法。

背景技術(shù)

以往，已知從噴嘴吐出墨來形成圖像等的噴墨記錄裝置。噴墨記錄裝置的噴墨頭具有形成多個(gè)噴嘴孔并在射出面?zhèn)刃纬捎芯芤耗さ膰娮旎濉?/p>

作為上述噴嘴基板，已知形成有噴嘴孔的內(nèi)壁以及多個(gè)層的耐墨保護(hù)膜的噴嘴基板(參照專利文獻(xiàn)1)。該噴嘴基板成為如下構(gòu)造：首先形成覆膜性高的硅氧化膜，接下來用CVD(Chemical Vapor Deposition：化學(xué)氣相蒸鍍)法在內(nèi)壁、射出面(表面)以及流路側(cè)的面(背面)形成具有耐墨性的金屬氧化物的保護(hù)膜，之后在射出面?zhèn)刃纬删芩?拒液膜)。該構(gòu)造主要著眼于針對墨與噴嘴基板接觸的狀態(tài)的耐久性的提高。

另外，已知在流路側(cè)的面形成硅氮化膜以及硅氧化膜，將該硅氧化膜與研削屑一起去除的噴嘴基板(參照專利文獻(xiàn)2)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-184176號公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2008-284825號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

另一方面，作為在噴嘴基板的射出面?zhèn)刃纬傻木芤耗ぶ幸蟮奶匦?，可以舉出抗摩耗性，如專利文獻(xiàn)1的噴嘴基板，在金屬氧化物或者硅氧化膜中由于維護(hù)時(shí)的擦除發(fā)生摩耗而拒液性易于降低。特別在射出面被包含色料的墨濕潤的狀態(tài)下進(jìn)行擦除時(shí)，與拒液性的降低同時(shí)，拒液膜基底層的金屬氧化物或者硅氧化膜發(fā)生膜的減少。

另外，在專利文獻(xiàn)2的噴嘴基板中，也在射出面?zhèn)葻o保護(hù)膜，由于摩耗而拒液性降低。

本發(fā)明的課題在于防止噴嘴基板的射出面?zhèn)鹊木芤盒越档汀?/p>

為了解決上述課題，方案1記載的發(fā)明提供一種噴墨頭，具備噴嘴基板，該噴嘴基板具有：

基板部，形成有射出墨的噴嘴；

拒液膜基底層，形成于所述基板部的射出面?zhèn)?，至少在表面具有硅氮化膜或者硅氧氮化膜；以?/p>

拒液膜，形成于所述拒液膜基底層的射出面?zhèn)取?/p>

方案2記載的發(fā)明在方案1記載的噴墨頭中，

所述墨包含顏料分子。

方案3記載的發(fā)明在方案1或者2記載的噴墨頭中，

所述墨是堿性的。

方案4記載的發(fā)明在方案1至3中的任意一項(xiàng)記載的噴墨頭中，

所述拒液膜基底層形成于所述基板部的射出面?zhèn)纫约八鰢娮斓牧髀穬?nèi)。

方案5記載的發(fā)明在方案1至4中的任意一項(xiàng)記載的噴墨頭中，

具有形成于所述基板部的所述噴嘴的流路內(nèi)的流路保護(hù)膜。

方案6記載的發(fā)明在方案1至5中的任意一項(xiàng)記載的噴墨頭中，

所述拒液膜基底層由硅氮化膜構(gòu)成。

方案7記載的發(fā)明在方案1至5中的任意一項(xiàng)記載的噴墨頭中，

所述拒液膜基底層由硅氧氮化膜構(gòu)成。

方案8記載的發(fā)明在方案1至5中的任意一項(xiàng)記載的噴墨頭中，