[發明專利]使用超臨界流體將石墨材料剝離并分散入聚合物基質中的方法在審
| 申請號: | 201880043899.1 | 申請日: | 2018-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN110869422A | 公開(公告)日: | 2020-03-06 |
| 發明(設計)人: | S·M·哈米迪內賈德;C·B·帕克;S·納扎波爾 | 申請(專利權)人: | 納米探索股份有限公司 |
| 主分類號: | C08J3/22 | 分類號: | C08J3/22;C08K3/04;C08L101/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 汪宇偉 |
| 地址: | 加拿大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 臨界 流體 石墨 材料 剝離 分散 聚合物 基質 中的 方法 | ||
1.一種制造聚合物母料的方法,該方法包括:
將石墨材料和聚合物混合第一時間段以形成第一混合物;
將超臨界流體轉移至該第一混合物以形成第二混合物;
將該第二混合物混合第二時間段,和
將該第二混合物降壓以使該超臨界流體轉變成氣相。
2.權利要求1的方法,其進一步包括:
保持該第二混合物高于該超臨界流體的臨界壓力。
3.權利要求1的方法,其進一步包括:
保持該第二混合物高于該超臨界流體的臨界溫度。
4.權利要求1的方法,其中該石墨材料是以下中的至少之一:結晶石墨、石墨烯納米小片、少層石墨烯、單層石墨烯、氧化石墨烯、膨脹氧化石墨及其組合。
5.權利要求1的方法,其中該石墨材料在第一時間段之前具有第一平均厚度,和在該第一時間段之后具有小于該第一厚度的第二平均厚度。
6.權利要求5的方法,其中該石墨材料在該第二時間段之后具有小于該第二平均厚度的第三平均厚度。
7.權利要求6的方法,其中該石墨材料在使該第二混合物降壓之后具有小于該第三平均厚度的第四平均厚度。
8.權利要求6的方法,其中該第三平均厚度是約5層至約50層。
9.權利要求7的方法,其中該第四平均厚度是1層至約10層。
10.權利要求5的方法,其中該第一平均厚度是約10層至約100層。
11.權利要求5的方法,其中該第二平均厚度是約10層至約100層。
12.權利要求1的方法,其中該超臨界流體是二氧化碳和氮氣中的至少之一。
13.權利要求1的方法,其中該第二混合物包括大于約10wt%的石墨材料。
14.權利要求1的方法,其中該超臨界流體是第一超臨界流體,該方法進一步包括:
將第二超臨界流體轉移至該第二混合物以形成第三混合物;和
將該第三混合物混合第三時間段。
15.權利要求14的方法,其中該第一超臨界流體不同于該第二超臨界流體。
16.權利要求14的方法,其進一步包括:
將該第三混合物降壓以使該第二超臨界流體轉變成氣相。
17.權利要求16的方法,其進一步包括:
將第三超臨界流體轉移至該第三混合物以形成第四混合物;和
將該第四混合物混合第四時間段。
18.權利要求17的方法,其進一步包括:
將該第四混合物降壓以使該第三超臨界流體轉變成氣相。
19.一種制造聚合物母料的方法,該方法包括:
將石墨材料和聚合物在混合容器中混合第一時間段以形成第一混合物;
將超臨界流體轉移至該混合容器以與該第一混合物形成第二混合物;
將該第二混合物混合第二時間段,和
使該混合容器降壓以使該超臨界流體轉變成氣相。
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