[發明專利]用于分析聚合物膜的方法有效
| 申請號： | 201880042248.0 | 申請日： | 2018-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN110785665B | 公開（公告）日： | 2022-05-10 |
| 發明（設計）人： | 柳亨周;具世真;李美宿;尹圣琇 | 申請（專利權）人： | 株式會社LG化學 |
| 主分類號： | G01Q30/06 | 分類號： | G01Q30/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 梁笑;吳娟 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 分析 聚合物 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于分析具有嵌段共聚物的聚合物膜的方法，所述聚合物膜形成在以規則間隔設置的溝槽中并且是自組裝的，所述方法包括：
使所述聚合物膜的原始圖像模糊以將與所述溝槽相對應的區域和與自組裝的所述嵌段共聚物相對應的區域與所述聚合物膜的原始圖像分離的步驟，
對所述原始圖像和經模糊處理的圖像進行傅里葉變換的步驟，和
從通過傅里葉變換產生的圖像中去除噪聲的步驟，
其中，所述去除噪聲的步驟是去除所述原始圖像的傅里葉變換結果與所述經模糊處理的圖像的傅里葉變換結果的重疊范圍的步驟。
2.根據權利要求1所述的用于分析聚合物膜的方法，還包括根據去除了噪聲的原始圖像的傅里葉變換結果測量形成在所述聚合物膜的表面上的圖案的間距的步驟。
3.根據權利要求2所述的用于分析聚合物膜的方法，其中，測量間距的步驟是測量通過在0°至360°的范圍內對所述聚合物膜的傅里葉變換圖像進行徑向積分而形成的峰的步驟。
4.根據權利要求1所述的用于分析聚合物膜的方法，其中，所述嵌段共聚物的自組裝結構為柱狀結構、球狀結構或層狀結構。
5.根據權利要求1所述的用于分析聚合物膜的方法，其中，所述聚合物膜的所述原始圖像是通過掃描電子顯微鏡SEM、原子力顯微鏡AFM或透射電子顯微鏡TEM獲得的圖像。
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