[發明專利]高分子膜形成裝置、高分子膜形成方法及隔膜的制造方法

在審

• 申請號: 201880041251.0
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN110831705A
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發明（設計）人: 木下英樹;佐久間勇;守屋豪
• 申請（專利權）人: 東麗株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C9/04;B05C13/02;B05D1/26;B05D7/00;H01G11/52;H01M2/16
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.高分子膜形成裝置，其特征在于，具備：

狹縫模，其在內部形成有狹縫以對向下方搬送的網涂布包含高分子溶液的涂布液；和

使由涂布在所述網的表面的所述涂布液形成的涂膜與非溶劑接觸的單元，

所述狹縫模設置成：包含在所述網的搬送方向上的上游側模前端部及下游側模前端部的狹縫模前端部中的、僅所述上游側模前端部與所述網接觸，并且

在所述狹縫模前端部的相對位置處、未隔著所述網而配置支承所述網的構件。

2.根據權利要求1所述的高分子膜形成裝置，其特征在于，所述狹縫模隔著被搬送的所述網設置有兩個，兩個狹縫模以僅所述上游側模前端部與網接觸的方式配置，兩個狹縫模的上游側模前端部彼此以網的搬送方向為坐標軸而在軸向上分開1.0mm以上。

3.根據權利要求1或2所述的高分子膜形成裝置，其特征在于，所述狹縫模的排出方向與所述網的搬送方向在涂布液被排出并被涂布于網的一側所成的角度a為90°＜a≤150°。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的高分子膜形成裝置，其特征在于，使涂膜與非溶劑接觸的所述單元為將非溶劑噴霧的單元、涂布非溶劑的單元、將涂膜浸漬在非溶劑中的單元、使氣化后的非溶劑與涂膜接觸的單元中的一者或多者的組合。

5.高分子膜形成方法，其為使用在內部形成有狹縫的狹縫模向網涂布涂布液從而形成高分子膜的方法，所述方法的特征在于，包括：

向所述網的表面涂布涂布液，形成涂膜的工序；和

使所述涂膜與非溶劑接觸從而將所述涂膜固化的工序，

所述狹縫模設置成：包含在所述網的搬送方向上的上游側模前端部及下游側模前端部的狹縫模前端部中的、僅所述上游側模前端部與所述網接觸，

在所述狹縫模前端部的相對位置處、未隔著所述網而配置支承所述網的構件。

6.根據權利要求5所述的高分子膜形成方法，其特征在于，所述狹縫模隔著所述網設置有兩個，兩個狹縫模僅各自的所述上游側模前端部與網接觸，且所述兩個狹縫模的所述上游側模前端部彼此以所述網的搬送方向為坐標軸而在軸向上分開1.0mm以上，利用所述兩個狹縫模向所述網的兩面涂布所述涂布液，形成所述涂膜。

7.根據權利要求5或6所述的高分子膜形成方法，其特征在于，所述狹縫模的排出方向與所述網的搬送方向在涂布液被排出并被涂布于所述網的一側所成的角度a為90°＜a≤150°。

8.根據權利要求5～7中任一項所述的高分子膜形成方法，其特征在于，

在使所述涂膜固化的工序中，通過非溶劑的噴霧、非溶劑的涂布、涂膜在非溶劑中的浸漬、氣化后的非溶劑與涂膜接觸中的一者或多者的組合來使所述涂膜與所述非溶劑接觸。

9.根據權利要求5～8中任一項所述的高分子膜形成方法，其特征在于，在所述涂布液中混合有無機粒子。

10.根據權利要求5～9中任一項所述的高分子膜形成方法，其特征在于，所述網是聚烯烴微多孔膜。

11.根據權利要求5～10中任一項所述的高分子膜形成方法，其特征在于，所述涂布液包含重均分子量為5000以下的單體或低聚物。

12.隔膜的制造方法，其特征在于，利用權利要求5～11中任一項所述的高分子膜形成方法在所述網上形成所述高分子膜。