[發(fā)明專利]復(fù)合燒結(jié)體在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880040961.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110785504A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 渡部直樹(shù);原田高志;岡村克己;石井顯人;久木野曉;東泰助 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友電氣工業(yè)株式會(huì)社;住友電工硬質(zhì)合金株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C22C1/05 | 分類號(hào): | C22C1/05;B23B27/14;B23B27/20;B23C5/16;C22C26/00;C22C29/16 |
| 代理公司: | 11112 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 張?zhí)K娜;樊曉煥 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 立方氮化硼顆粒 復(fù)合燒結(jié)體 結(jié)合相 線段 穿過(guò) 金剛石顆粒 平均粒徑 | ||
一種復(fù)合燒結(jié)體,該復(fù)合燒結(jié)體包含多個(gè)金剛石顆粒、多個(gè)立方氮化硼顆粒以及剩余的結(jié)合相,其中結(jié)合相包含鈷,復(fù)合燒結(jié)體中的立方氮化硼顆粒的含量為3體積%至40體積%,在任意指定的穿過(guò)復(fù)合燒結(jié)體的直線上,穿過(guò)連續(xù)的立方氮化硼顆粒的線段的平均長(zhǎng)度為立方氮化硼顆粒的平均粒徑的三倍以下。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種復(fù)合燒結(jié)體。本申請(qǐng)要求基于2017年8月24日遞交的日本專利申請(qǐng)No.2017-161349的優(yōu)先權(quán),該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用方式并入本文。
背景技術(shù)
日本專利特開(kāi)No.2005-239472(專利文獻(xiàn)1)公開(kāi)了一種高強(qiáng)度和高耐磨性的金剛石燒結(jié)體,該金剛石燒結(jié)體包含:平均粒徑為2μm以下的燒結(jié)金剛石顆粒;以及剩余的結(jié)合相,其中金剛石燒結(jié)體中的燒結(jié)金剛石顆粒的含量為80體積%以上98體積%以下,結(jié)合相包含鈷和選自由鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻和鉬組成的組中的至少一種元素,結(jié)合相中的所述至少一種元素的含量為0.5質(zhì)量%以上且小于50質(zhì)量%,結(jié)合相中的鈷的含量為50質(zhì)量%以上且小于99.5質(zhì)量%,選自由鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻和鉬組成的組的所述至少一種元素的一部分或全部以平均粒徑為0.8μm以下的碳化物顆粒的形式存在,該碳化物顆粒結(jié)構(gòu)不連續(xù),并且相鄰的燒結(jié)金剛石顆粒彼此結(jié)合。
日本專利特開(kāi)No.9-316587(專利文獻(xiàn)2)公開(kāi)了一種高強(qiáng)度微細(xì)顆粒金剛石燒結(jié)體,該金剛石燒結(jié)體包含:燒結(jié)金剛石顆粒;以及剩余的結(jié)合劑,其中各燒結(jié)金剛石顆粒的粒徑落在0.1μm至4μm的范圍內(nèi),結(jié)合劑包含選自由Fe、Co和Ni組成的組中的至少一種鐵族金屬,并且氧含量落在0.01重量%至0.08重量%的范圍內(nèi)。
日本專利特開(kāi)No.1-17836(專利文獻(xiàn)3)公開(kāi)了一種由通過(guò)在超高壓和高溫下燒結(jié)金剛石原料粉末顆粒獲得的燒結(jié)體構(gòu)成的金剛石燒結(jié)體,各金剛石原料粉末顆粒均勻地被覆有6體積%至0.1體積%的元素周期表中第4a、5a或6a族過(guò)渡金屬、硼或硅,其中金剛石燒結(jié)體包含94體積%至99.8體積%的金剛石以及剩余的被覆材料的碳化物。
日本國(guó)家專利公開(kāi)No.2014-531967(專利文獻(xiàn)4)公開(kāi)了一種多晶金剛石復(fù)合片,該多晶金剛石復(fù)合片包含:多晶金剛石本體,其具有包含多個(gè)結(jié)合在一起的金剛石晶粒和位于金剛石晶粒之間的間隙區(qū)域的材料微觀構(gòu)造;包含鎢和催化劑金屬的基材;以及位于多晶金剛石本體和基材之間的晶粒生長(zhǎng)抑制劑層,該晶粒生長(zhǎng)抑制劑層包含多個(gè)散布有鎢和催化劑金屬的含鈦顆粒,其中含鈦顆粒的尺寸小于800納米,其中晶粒生長(zhǎng)抑制劑層在相對(duì)側(cè)與基材和多晶金剛石本體結(jié)合,并且晶粒生長(zhǎng)抑制劑層的厚度為約20微米至100微米,并且其中金剛石顆粒的平均尺寸為約1微米以下。
WO 2007/039955(專利文獻(xiàn)5)公開(kāi)了一種用于高表面完整性加工的cBN燒結(jié)體,該cBN燒結(jié)體包含以體積%計(jì)的60體積%以上95體積%以下的cBN(立方氮化硼)成分,熱導(dǎo)率為70W·m-1·K-1以上,并且cBN燒結(jié)體的最外表面被覆有耐熱膜,該耐熱膜的厚度為0.5μm至12μm并且包含由選自第4a、5a、6a族元素和Al中的至少一種元素以及選自C、N和O中的至少一種元素構(gòu)成的化合物。
WO 2005/066381(專利文獻(xiàn)6)公開(kāi)了一種立方氮化硼燒結(jié)體,該立方氮化硼燒結(jié)體包含立方氮化硼顆粒和用于將cBN顆粒彼此結(jié)合的結(jié)合材料,該立方氮化硼燒結(jié)體包含:在70體積%至98體積%范圍內(nèi)的cBN顆粒;以及由Co化合物、Al化合物和WC以及這些化合物的固溶體構(gòu)成的殘留結(jié)合材料,其中燒結(jié)體中的cBN顆粒包含0.03重量%以下的Mg和0.001重量%以上0.05重量%以下的Li。
引文列表
專利文獻(xiàn)
PTL1:日本專利特開(kāi)No.2005-239472
PTL2:日本專利特開(kāi)No.9-316587
PTL3:日本專利特開(kāi)No.1-17836
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