[發明專利]電磁輻射快速探測器有效
| 申請號: | 201880040816.3 | 申請日: | 2018-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN110770549B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發明(設計)人: | 戴維德·史克爾提薩蒂;賽吉歐·佩萊格里諾;賈科莫·卡佩拉 | 申請(專利權)人: | 鐳射點有限公司 |
| 主分類號: | G01J1/42 | 分類號: | G01J1/42;G01K17/00;G01J5/12 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 董科 |
| 地址: | 意大利米蘭*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電磁輻射 快速 探測器 | ||
1.一種電磁輻射探測器,包括:
-一襯底(1),
-一有取向的熱電材料多晶層(2),位于所述襯底的頂表面(10)上,所述有取向的多晶層具有相對于所述襯底頂表面的法線成30°至55°之間的角度的晶體取向,
-第一電極(6)和第二電極(7),彼此隔開并與所述有取向的多晶層電接觸,
其特征在于,所述有取向的熱電材料多晶層(2)通過掠射角沉積技術(GLAD)被沉積在所述襯底的所述頂表面(10)上;
所述襯底的頂層是一陶瓷層,或者整個所述襯底是一陶瓷層;
所述陶瓷層沒有特定的晶粒取向;
所述陶瓷層是燒結的陶瓷層;
所述第一電極(6)和第二電極(7)由與所述有取向的熱電材料多晶層(2)相同的材料制成。
2.根據權利要求1所述的探測器,其特征在于,所述襯底包括一金屬層,該金屬層先前已經被陶瓷層電鈍化。
3.根據權利要求1或2中任一項所述的探測器,其特征在于,包括至少一個條帶(100),該至少一個條帶(100)由在所述第一電極和所述第二電極之間延伸的所述有取向的多晶層形成。
4.根據權利要求3所述的探測器,其特征在于,包括多個條帶(100),其中,每個條帶由所述有取向的多晶層形成,所述多個條帶中的所述條帶彼此隔開并且彼此平行,所述多個條帶在所述第一和第二電極之間延展。
5.根據權利要求1或2中任一項所述的探測器,其特征在于,包括多個條帶(101…10n-1、10n),其中每個條帶由所述有取向的多晶層形成,所述多個條帶中的所述條帶是彼此間隔開并且彼此平行,所述多個條帶中的所述條帶從一第一條帶(101)到第n條帶(10n)連續布置,所述多個條帶中的每個條帶具有一第一末端(S1)和一第二末端(S2),所述第一電極(6)連接到所述多個條帶中的所述第一條帶(101)的第一末端(S1),所述第二電極(7)連接到所述多個條帶的第n個條帶(10n)的第二末端(S2)上,所述多個條帶的每個條帶的所述第二末端與所述多個條帶的連續條帶的第一末端電接觸。
6.根據權利要求1或2中任一項所述的探測器,其特征在于,包括多個條帶(201、301..20n,30n),其中每個條帶由所述有取向的多晶層形成,但是其中相鄰的條帶(201、301;202、302…20n,30n)的所述有取向的多晶層具有相反的晶粒取向,所述多個條帶中的所述條帶間隔開并且彼此平行,所述多個條帶中的所述條帶從一第一條帶(201)開始到第n條帶(30n)連續排列,所述多個條帶中的每個條帶具有一第一末端(S1)和一第二末端(S2),所述第一電極(6)連接至所述多個條帶的所述第一條帶(201)的第一末端(S1),所述第二電極連接到所述多個條帶的第n條帶(30n)的第二末端,所述多個條帶的每個條帶的所述第二末端與所述多個條帶中的連續條帶的所述第一末端電接觸。
7.根據權利要求1所述的探測器,其特征在于,所述襯底的頂表面具有小于2μm的粗糙度。
8.根據權利要求1所述的探測器,其特征在于,包括一鈍化層(4),所述鈍化層(4)疊加在所述有取向的多晶層上。
9.根據權利要求8所述的探測器,其特征在于,包括一緩沖層(3),所述緩沖層(3)位于所述有取向的多晶層和所述鈍化層之間。
10.根據權利要求8所述的探測器,其特征在于,包括一吸收層(9),置于所述鈍化層上方。
11.根據權利要求1所述的探測器,其特征在于,所述襯底的頂表面被紋理化,從而在與所述有取向的多晶層的傾斜晶粒的投影相同的方向上形成相鄰的V形凹槽。
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