[發明專利]光學和耐劃痕涂層上具有耐用潤滑防指紋涂層的玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷制品及其制造方法

有效

• 申請號: 201880040705.2
• 申請日: 2018-05-08
• 公開（公告）號: CN110997587B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: K·阿迪比;R·A·貝爾曼;金宇輝;B·Y·約翰遜;T·E·邁爾斯;E·L·諾爾;C·A·保爾森;J·J·普萊斯;F·C·M·韋里耶
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00;C04B41/89;C04B41/49;C04B41/52;C03C17/42
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐鑫;項丹

1.一種制品，其包括：

包含主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基材；

布置在所述主表面上的光學膜或耐劃痕膜中的至少一種；和

包含氟化材料的易清潔(ETC)涂層，其布置在所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種的外表面上；

其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種包括10GPa或更大的平均硬度，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種包括光學膜和耐劃痕膜，所述耐劃痕膜布置在所述光學膜上方，所述光學膜包括交替的高折射率層和低折射率層的至少一個周期，具有布置在基材的主表面上的第一低折射率層，所述高折射率層包含Si₃N₄、SiN_x或SiO_xN_y，式中的每個下標會從0至1變化，以及所述光學膜和耐劃痕膜中的至少一種的外表面包括小于1.0nm的表面粗糙度(R_q)。

2.如權利要求1所述的制品，其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種的外表面包括小于0.7nm的表面粗糙度(R_q)。

3.如權利要求1所述的制品，其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種的外表面包括小于0.5nm的表面粗糙度(R_q)。

4.如權利要求1所述的制品，其中，根據鋼絲絨測試，在以1kg的負荷經受2000次往復循環之后，ETC涂層的暴露表面包括100度或更大的平均水接觸角。

5.如權利要求1所述的制品，其中，根據鋼絲絨測試，在以1kg的負荷經受3500次往復循環之后，ETC涂層的暴露表面包括100度或更大的平均水接觸角。

6.如權利要求1所述的制品，其中，所述ETC涂層包括全氟聚醚(PFPE)硅烷。

7.如權利要求1所述的制品，其中，所述耐劃痕膜包含AlO_xN_y材料，并且每個下標會從0至1變化。

8.如權利要求1所述的制品，其中，所述耐劃痕膜包含Si_uAlO_xN_y材料，并且每個下標會從0至1變化。

9.如權利要求1所述的制品，其中，所述耐劃痕膜包含Si₃N₄。

10.如權利要求1所述的制品，其中，所述基材包括玻璃組合物和壓縮應力區域，所述壓縮應力區域從所述主表面延伸到基材中的第一選定深度。

11.如權利要求1所述的制品，其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種包括約500nm或更大的總厚度。

12.如權利要求1所述的制品，其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種包括約1500nm或更大的總厚度。

13.如權利要求1所述的制品，其中，所述光學膜或耐劃痕膜中的至少一種的外表面包括0.1nm至小于1nm的表面粗糙度(R_q)，并且每個低折射率層包含SiO₂、熔合SiO₂、氟摻雜熔合SiO₂、MgF₂、CaF₂、AlF₃、YF₃或YbF₃。

14.如權利要求13所述的制品，其中，所述低折射率層包含SiO₂。