[發明專利]源于增材疊層工藝的完全均勻覆蓋非光滑表面的薄且紋理化的膜

有效

• 申請號: 201880040593.0
• 申請日: 2018-06-11
• 公開（公告）號: CN110799664B
• 公開（公告）日: 2022-11-01
• 發明（設計）人: A·S·克里曼;D·王;K·休斯
• 申請（專利權）人: 普萊克斯S.T.技術有限公司
• 主分類號: C23C4/06
• 分類號: C23C4/06;C23C4/123;C22C29/08;B22F10/20;B22F5/00;B21B27/00;B32B3/30;B33Y10/00;B33Y80/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張萍;林毅斌

1.一種紋理化且薄的膜，包括：

基底，所述基底包括以圖案為特征的非光滑表面，所述圖案具有預先確定數量的峰和谷；

所述紋理化且薄的膜沿整個所述非光滑表面連續地延伸，所述紋理化薄膜源于通過增材疊層裝置喂入的顆粒的液體原料，所述顆粒具有不大于5微米的有效直徑；

所述紋理化且薄的涂層具有最小厚度和不大于25微米的最大厚度，使得所述最小厚度與所述最大厚度的比率在0.6至1.0的范圍內，從而產生基本上適形于所述非光滑表面的所述圖案的膜紋理。

2.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述非光滑表面選自工作輥、壓花輥、雕刻輥、蝕刻輥、滾花輥、夾送輥、壓延輥、壓塊輥、瓦楞輥、計量輥、牽引輥、導絲輥和槽紋輥。

3.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述膜具有在5微米至25微米范圍內的厚度。

4.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述顆粒的有效直徑在0.1微米至5.0微米的范圍內。

5.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，還具有小于1.5微米的表面粗糙度(Ra)。

6.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，還具有在900-1400范圍內的顯微硬度HV₃₀₀。

7.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述膜包括選自WC-CoCr、WC-Co、WC-Ni和CrC-NiCr的組合物。

8.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述圖案具有被限定為基本上波狀的起伏輪廓。

9.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述圖案為基本上正弦的或基本上方狀的。

10.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中基礎圖案的結構完整性被充分地保持。

11.根據權利要求1所述的紋理化且薄的膜，其中所述紋理化薄膜基本上不改變或降解基礎圖案。

12.一種紋理化且薄的膜，包括：

基底，所述基底包括以圖案為特征的非光滑表面，所述圖案的特征在于由預先確定數量的峰和谷限定的起伏輪廓；

所述紋理化且薄的膜沿整個所述非光滑表面連續地延伸，以產生(i)經涂覆的峰，每個經涂覆的峰適形于非光滑表面的對應峰的所述起伏輪廓，以及(iii)經涂覆的谷，每個經涂覆的谷適形于所述非光滑表面的對應谷的所述起伏輪廓；

所述紋理化且薄的膜源于通過增材疊層裝置喂入的液體原料顆粒；

所述紋理化且薄的膜具有最小厚度和不大于25微米的最大厚度，使得所述最小厚度與所述最大厚度的比率在0.6至1.0的范圍內。

13.根據權利要求12所述的紋理化且薄的膜，所述顆粒具有不大于5微米的有效直徑。

14.根據權利要求12所述的紋理化且薄的膜，其中所述顆粒是納米級的以形成單層膜。

15.一種用于形成沿基底的外表面的完全覆蓋的基底而基本上不改變或降解所述基底的外表面的紋理輪廓的方法，所述方法包括以下步驟：

提供具有所述外表面的所述基底，所述外表面具有圖案，所述圖案的特征如由所述紋理輪廓所限定的那樣是非光滑的；

提供增材疊層裝置，所述增材疊層裝置包括燃燒室和噴嘴；

生成熱氣體流出物；

將顆粒的液體原料喂入所述熱氣體流出物中，所述顆粒具有0.1微米至5微米范圍內的尺寸；

產生熔融的顆粒流出物；以及

將所述熔融的顆粒流出物引導到所述非光滑紋理輪廓上以產生基本上適形于所述非光滑表面的所述圖案的紋理化膜。