[發(fā)明專利]電解處理組件和使用其的表面處理裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880039005.1
• 申請(qǐng)日: 2018-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN110753763A
• 公開（公告）日: 2020-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石井勝己;渡邊重幸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ALMEXPE株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C25D17/00
• 分類號(hào): C25D17/00;C25D17/10;H05K3/18
• 代理公司: 11127 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 沈娥;褚瑤楊

1.一種電解處理組件，其安裝在對(duì)設(shè)定為陰極的工件的表面進(jìn)行電解處理的表面處理槽中，其特征在于，

該電解處理組件具有噴嘴單元；以及

與所述噴嘴單元一體地連結(jié)的陽極單元，

所述噴嘴單元包含：

從垂直方向的不同位置分別噴出處理液的多個(gè)噴嘴管；

向所述多個(gè)噴嘴管供給所述處理液的共用配管；以及

將所述共用配管與設(shè)置于所述表面處理槽的外部配管連結(jié)的配管接頭，

所述陽極單元具有：

至少一個(gè)不溶性陽極，其配置在與所述多個(gè)噴嘴管在水平方向分開的位置；

陽極箱，其包含與所述至少一個(gè)不溶性陽極在所述水平方向分開地配置的間隔壁，利用所述間隔壁包圍所述至少一個(gè)不溶性陽極；以及

被供電部，其將所述至少一個(gè)不溶性陽極與設(shè)置于所述表面處理槽的外部供電部連接。

2.如權(quán)利要求1所述的電解處理組件，其特征在于，

所述被供電部包含與設(shè)置于所述表面處理槽的上方開口部的緣部的所述外部供電部電連接的連接端子部，

所述共用配管與所述多個(gè)噴嘴管的各上端部連通，在所述多個(gè)噴嘴管的上部水平延伸。

3.如權(quán)利要求2所述的電解處理組件，其特征在于，

所述共用配管被配置在比所述陽極單元的上端部更高的位置，

所述配管接頭通過所述陽極單元的上方并與設(shè)置在所述表面處理槽的所述上方開口部的所述緣部的所述外部配管連接。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電解處理組件，其特征在于，

所述多個(gè)噴嘴管的下端部被固定于所述陽極箱的下端部。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的電解處理組件，其特征在于，

所述間隔壁中的至少與所述多個(gè)噴嘴管相對(duì)的表面?zhèn)乳g隔壁由選擇性地透過所述處理液中的金屬離子的材料形成。

6.如權(quán)利要求5所述的電解處理組件，其特征在于，

所述間隔壁中的與所述表面?zhèn)乳g隔壁相對(duì)的背面?zhèn)乳g隔壁具有流通所述處理液的開口。

7.如權(quán)利要求6所述的電解處理組件，其特征在于，

所述至少一個(gè)不溶性陽極包含在所述水平方向上相鄰的兩個(gè)不溶性陽極之間具有空隙地配置的多個(gè)不溶性陽極，

所述背面?zhèn)乳g隔壁在與所述兩個(gè)不溶性陽極之間的所述空隙相對(duì)的位置具有所述開口。

8.如權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的電解處理組件，其特征在于，

所述陽極箱保持有遮蔽掩模，該遮蔽掩模遮蔽在所述至少一個(gè)不溶性陽極與所述工件之間形成的電場(chǎng)的一部分。

9.如權(quán)利要求8所述的電解處理組件，其特征在于，

所述遮蔽掩模包含遮蔽所述電解的下側(cè)區(qū)域的第1遮蔽掩模、以及遮蔽所述電解的上側(cè)區(qū)域的第2遮蔽掩模。

10.如權(quán)利要求9所述的電解處理組件，其特征在于，

所述陽極箱具有對(duì)所述第1遮蔽掩模和所述第2遮蔽掩模各自的垂直方向的安裝位置進(jìn)行調(diào)整的調(diào)整機(jī)構(gòu)。

11.一種表面處理裝置，其特征在于，其具有：

對(duì)工件的表面進(jìn)行電解處理的表面處理槽；以及

配置在所述表面處理槽內(nèi)的權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的電解處理組件。