[發明專利]光譜儀

在審

• 申請號: 201880038521.2
• 申請日: 2018-04-09
• 公開（公告）號: CN110753834A
• 公開（公告）日: 2020-02-04
• 發明（設計）人: 斯蒂芬·弗雷德里奇
• 申請（專利權）人: 安瓦約有限公司
• 主分類號: G01J3/02
• 分類號: G01J3/02;G01J3/18;G02B5/18
• 代理公司: 11291 北京同達信恒知識產權代理有限公司
• 代理人: 何月華

1.一種具有殼體(11)的光譜儀，其中，

布置有平面光柵(2)、物鏡裝置(6)和傳感器元件(7)，所述平面光柵(2)布置為與所述殼體(11)的孔(1)相對并且相對于所述孔(1)的法線以小于45°的角度對準，其中，

所述孔(1)的尺寸被設計成使得在電磁輻射平行于所述孔(1)的法線入射的情況下，所述光柵(2)的表面被完全輻射，其中，

為了將所述電磁輻射聚焦到所述傳感器元件(7)上，所述物鏡裝置(6)布置在所述光柵(2)和所述傳感器元件(7)之間，使得：

僅將所述電磁輻射的由所述光柵(2)衍射的第一級衍射或更高級的衍射定向至所述物鏡裝置(6)和所述傳感器元件(7)上。

2.根據權利要求1所述的光譜儀，其特征在于，入射的所述電磁輻射從所述孔(1)穿過直接到達所述光柵(2)上。

3.根據權利要求1或2所述的光譜儀，其特征在于，所述孔(1)具有至少在0.5mm和2.5mm之間、優選為1mm的直徑或寬度。

4.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述光柵(2)相對于所述法線對準的角度在5°和15°之間、優選地在7°和10°之間、特別優選為7.5°。

5.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述孔(1)與所述光柵(2)之間的距離在1mm和40mm之間、優選地在10mm和30mm之間、特別優選為20mm。

6.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述光柵(2)設置有涂層，所述涂層反射入射的所述電磁輻射的至少90％。

7.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述物鏡裝置(6)具有至少兩個聚焦透鏡。

8.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述物鏡裝置(6)具有在1mm和4mm之間、優選地為2mm的焦距。

9.根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀，其特征在于，所述傳感器元件(7)是光電二極管線陣列或圖像傳感器。

10.一種具有根據前述權利要求中任一項所述的光譜儀的手機(13)。