[發(fā)明專利]與外涂覆的光致抗蝕劑一起使用的涂料組合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880038368.3
• 申請日: 2018-08-09
• 公開（公告）號: CN111033381A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李晶真;J-Y·安;B-K·顧;沈載桓;林載峰
• 申請（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料韓國有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;C09D7/63;C08K5/43;C08K5/10
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 錢文宇;陳哲鋒

1.一種用于形成光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，其包括：

a)在基底上施加一層涂料組合物，所述涂料組合物包含：1)樹脂；和2)PDQ化合物；以及

b)在所述涂料組合物層上施加一層光致抗蝕劑組合物。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述PDQ化合物具有氨基磺酸根陰離子或羧酸根陰離子。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述PDQ化合物包含pKa大于0的陰離子。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述PDQ化合物具有下式(A)或(B)的結(jié)構(gòu)：

其中：

R₁和R₂各自獨(dú)立地為氫、取代或未取代的C₁-C₁₂烷基、取代或未取代的C₃-C₁₂環(huán)烷基、或取代或未取代的苯基；

R₃為取代或未取代的C₁-C₁₂烷基、取代或未取代的C₃-C₁₂環(huán)烷基、或取代或未取代的苯基；并且

Y是陽離子。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中，Y是：

6.如權(quán)利要求4或5所述的方法，其中，R₁和R₂獨(dú)立地為氫、甲基、環(huán)己基、金剛烷基或被金剛烷基取代的C₁-C₃烷基和/或R₃是金剛烷基。

7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述PDQ化合物是：

8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述樹脂包含異氰尿酸酯基團(tuán)。

9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述涂料組合物進(jìn)一步包含各自不同于所述PDQ化合物和所述樹脂的1)交聯(lián)劑組分和/或2)熱酸產(chǎn)生劑化合物。

10.一種經(jīng)涂覆的基底，其包括：

基底，其上具有：

a)涂料組合物，其包含：

1)樹脂；和

2)PDQ化合物；以及

b)在所述涂料組合物層上的一層光致抗蝕劑組合物。

11.一種用于與外涂層光致抗蝕劑組合物一起使用的涂料組合物，所述涂料組合物包含：

1)樹脂；和

2)PDQ化合物。

12.如權(quán)利要求11所述的涂料組合物，其中，所述PDQ化合物包含氨基磺酸根陰離子或羧酸根陰離子。

13.如權(quán)利要求11或12所述的涂料組合物，其中，所述涂料組合物進(jìn)一步包含各自不同于所述PDQ化合物和所述樹脂的1)交聯(lián)劑組分和/或2)熱酸產(chǎn)生劑化合物。