[發明專利]脫水方法、脫水裝置以及膜結構體

有效

• 申請號: 201880037258.5
• 申請日: 2018-06-06
• 公開（公告）號: CN110709154B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 野田憲一;宮原誠;清水克哉;萩尾健史
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社
• 主分類號: B01D71/02
• 分類號: B01D71/02;B01D61/36;B01D69/10;B01D69/12;C01B39/04;C01B39/54
• 代理公司: 北京旭知行專利代理事務所(普通合伙) 11432
• 代理人: 王軼;鄭雪娜

1.一種脫水方法，其使用AFX結構的沸石膜，從含有水的混合物中選擇性地分離出水，

所述脫水方法的特征在于，包括：

向所述AFX結構的沸石膜的供給側空間供給所述混合物的工序、及

使所述AFX結構的沸石膜的所述供給側空間和透過側空間產生壓力差的工序，

在對所述沸石膜表面照射X射線而得到的X射線衍射圖案中，（110）晶面的峰強度為（004）晶面的峰強度的0.4倍～2倍，

所述沸石膜的表面粗糙度Ra為5μm以下。

2.根據權利要求1所述的脫水方法，其特征在于，

AFX結構的沸石膜至少含有Si、Al以及O。

3.根據權利要求1或2所述的脫水方法，其特征在于，

AFX結構的沸石膜形成在多孔質支撐體上。

4.一種脫水裝置，其特征在于，

包括分離用容器和變壓裝置，

其中，所述分離用容器具有：多孔質支撐體、形成在所述多孔質支撐體上的AFX結構的沸石膜、以及被區劃為所述AFX結構的沸石膜的供給側空間和透過側空間的收納部，

所述變壓裝置對所述供給側空間進行加壓，和／或，對所述透過側空間進行減壓，

在對所述沸石膜表面照射X射線而得到的X射線衍射圖案中，（110）晶面的峰強度為（004）晶面的峰強度的0.4倍～2倍，

所述沸石膜的表面粗糙度Ra為5μm以下。

5.根據權利要求4所述的脫水裝置，其特征在于，

AFX結構的沸石膜至少含有Si、Al以及O。

6.根據權利要求4或5所述的脫水裝置，其特征在于，

AFX結構的沸石膜至少包含AFX結構的沸石。

7.一種膜結構體，其特征在于，

具備：支撐體、以及形成在所述支撐體上的AFX結構的沸石膜，

在對所述沸石膜表面照射X射線而得到的X射線衍射圖案中，（110）晶面的峰強度為（004）晶面的峰強度的0.4倍～2倍，

所述沸石膜的表面粗糙度Ra為5μm以下。

8.根據權利要求7所述的膜結構體，其特征在于，

所述沸石膜至少含有Si、Al以及O。

9.根據權利要求8所述的膜結構體，其特征在于，

所述沸石膜表面的Si的物質量比例大于所述沸石膜內部的Si的物質量比例。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的膜結構體，其特征在于，

所述沸石膜實質上不含P。

11.根據權利要求7所述的膜結構體，其特征在于，

所述沸石膜的50℃下的水透過通量為1kg／（m²?h）以上。