[發(fā)明專利]具有凹槽尖端和致密的氧化物彌散強(qiáng)化層的渦輪機(jī)葉片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880035823.4
• 申請(qǐng)日: 2018-05-01
• 公開（公告）號(hào): CN110662884B
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚國汶;李經(jīng)邦;王理申;蕭行健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門子能源全球兩合公司
• 主分類號(hào): F01D5/20
• 分類號(hào): F01D5/20;F01D5/28
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張小文;王麗輝

1.一種用于渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片（10），包括：

大致長型的翼面（12），所述大致長型的翼面（12）包括：連接壓力側(cè)（18）和吸力側(cè)（20）的前緣（14）、后緣（16）；徑向外尖端帽（70），所述徑向外尖端帽（70）具有在所述翼面（12）的尖端端部（22）處的尖端帽上表面（50）；根部（34），所述根部（34）聯(lián)接到所述長型的翼面（12）且大致與所述尖端端部（22）相對(duì)，所述根部（34）支撐所述葉片（10）并且用于將所述葉片（10）聯(lián)接到盤；以及內(nèi)部冷卻系統(tǒng)（56），所述內(nèi)部冷卻系統(tǒng)（56）由定位在所述大致長型的翼面（12）內(nèi)的至少一個(gè)腔（58）形成；

凹槽尖端（36），所述凹槽尖端（36）從所述尖端帽上表面（50）徑向向外地延伸并且包括至少第一尖端帽肋（72）和第二尖端帽肋（74）；以及

至少一個(gè)致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38），所述至少一個(gè)致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38）沉積在所述尖端帽上表面（50）上并且從所述尖端帽上表面（50）徑向向外地延伸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的葉片（10），其中，與所述至少一個(gè)致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38）相比，至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）具有更小的徑向高度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的葉片（10），其中，至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）與所述至少一個(gè)致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38）具有近似相等的徑向高度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的葉片（10），其中，所述至少一個(gè)致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38）是至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）的材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的葉片（10），其中，所述致密的氧化物彌散強(qiáng)化層（38）也沉積在所述至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）的徑向最外表面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的葉片（10），其中，所述至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）中的至少一個(gè)從所述翼面（12）的所述壓力側(cè)（18）和吸力側(cè)（20）中的一個(gè)周向偏移，其中，來自所述內(nèi)部冷卻系統(tǒng)（56）的直接傳導(dǎo)冷卻被施用到所述凹槽尖端（36）的所述至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）中的所述至少一個(gè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的葉片（10），還包括定位在所述第一尖端帽肋（72）和沿著所述翼面（12）的所述壓力側(cè)（18）的邊緣之間的至少一個(gè)膜冷卻孔（60），所述至少一個(gè)膜冷卻孔（60）具有：所述至少一個(gè)膜冷卻孔（60）的在所述尖端帽上表面（50）中的排氣出口（62）；以及入口（64），所述入口（64）將所述至少一個(gè)膜冷卻孔（60）與形成所述內(nèi)部冷卻系統(tǒng)（56）的所述至少一個(gè)腔（58）聯(lián)接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的葉片（10），還包括熱障涂層（28），所述熱障涂層（28）在所述尖端帽上表面（50）上并沿著所述凹槽尖端（36）的所述至少兩個(gè)尖端帽肋（72、74）和/或所述至少一個(gè)ODS層（38）的每個(gè)暴露側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的葉片（10），還包括熱障涂層（28），所述熱障涂層（28）在形成所述葉片（10）的所述壓力側(cè)（18）和吸力側(cè)（20）的外表面上。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的葉片（10），還包括沿著所述翼面（12）的所述壓力側(cè)（18）延伸出來的成銳角的凸臺(tái)（30），其中，所述銳角是與所述壓力側(cè)的大部分的延伸平面所成的角并且從所述壓力側(cè)（18）向外打開，其中，所述成銳角的凸臺(tái)（30）包括頂部部分和下部部分，其中，底部部分從所述壓力側(cè)（18）延伸出來，并且所述頂部部分使所述凸臺(tái)（30）進(jìn)一步延伸到與所述葉片尖端（22）近似相等的徑向高度，其中，所述至少一個(gè)膜冷卻孔（60）定位成通過所述成銳角的凸臺(tái)（30），從而在所述翼面（12）的所述尖端帽上表面（50）中離開。