[發(fā)明專利]用于微光刻的投射曝光方法與投射曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880035820.0
• 申請(qǐng)日: 2018-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN110692019B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A.沃爾夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B13/22
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種在投射曝光裝置的操作控制系統(tǒng)的控制下以掩模的圖案的至少一個(gè)像來曝光輻射敏感基板的投射曝光方法，包含以下步驟：

將該掩模保持在該投射曝光裝置的照明系統(tǒng)與投射鏡頭之間，使得該圖案配置在該投射鏡頭的物面的區(qū)域中；

保持該基板使得該基板的輻射敏感表面配置在該投射鏡頭的像面的區(qū)域中，該像面與該物面光學(xué)共軛；

以由該照明系統(tǒng)所提供的照明輻射照明該掩模的照明區(qū)域；

在該投射鏡頭的協(xié)助下將位于該照明區(qū)域中的圖案的部分投射至在該基板上的像場(chǎng)上，其中促使該像場(chǎng)中的圖像產(chǎn)生的投射輻射的所有射線形成投射光束路徑；

通過致動(dòng)操縱器來影響該投射輻射的波前，該操縱器具有配置在該投射光束路徑中的操縱器表面和用以可逆地改變?cè)摬倏v器表面的光學(xué)效果的致動(dòng)裝置；

其中該操作控制系統(tǒng)基于控制程序決定該致動(dòng)裝置的操縱值變化，其中該控制程序具有優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)的校正算法，

其特征在于：

用于至少一個(gè)操縱器的目標(biāo)函數(shù)包含遠(yuǎn)心敏感度，其中該遠(yuǎn)心敏感度描述在該操縱器處的定義的操縱值變化與因此可實(shí)現(xiàn)的對(duì)該像場(chǎng)中的該投射輻射的遠(yuǎn)心度的影響之間的關(guān)系。

2.如權(quán)利要求1所述的投射曝光方法，其特征在于決定至少一個(gè)操縱器的Z1敏感度，其中該Z1敏感度描述在該操縱器處的定義的操縱值變化與因此所實(shí)現(xiàn)的對(duì)Zernike系數(shù)Z1的場(chǎng)分布或其數(shù)學(xué)上等同的變量的影響之間的關(guān)系。

3.如權(quán)利要求1或2所述的投射曝光方法，其特征在于用于改變?cè)撨h(yuǎn)心度的操縱器的遠(yuǎn)心敏感度儲(chǔ)存于該操作控制系統(tǒng)的內(nèi)存(SP)中，其中在考慮該遠(yuǎn)心敏感度的情況下對(duì)該投射曝光裝置的操作進(jìn)行控制。

4.如權(quán)利要求3所述的投射曝光方法，其特征在于在考慮到該遠(yuǎn)心敏感度的情況下，操縱器的操縱值變化被限制在低于操縱值極限值的量值。

5.如權(quán)利要求1或2所述的投射曝光方法，其特征在于在該目標(biāo)函數(shù)的優(yōu)化期間計(jì)算與物體表面共軛的OPL表面，該OPL表面由位于與共軛物點(diǎn)相距恒定光學(xué)路徑長(zhǎng)度(OPL)的光學(xué)距離處的整體像點(diǎn)所定義。

6.如權(quán)利要求5所述的投射曝光方法，其特征在于針對(duì)該OPL表面的決定，計(jì)算該投射輻射的波前在該像場(chǎng)上的恒定位移的分布。

7.如權(quán)利要求1或2所述的投射曝光方法，其特征在于在該投射曝光裝置的操作期間結(jié)合到該投射曝光裝置中的投射鏡頭的遠(yuǎn)心控制，包含以下步驟：

決定在開始時(shí)間時(shí)的遠(yuǎn)心度的起始值；

使用該操縱器的操縱值變化與分配的遠(yuǎn)心敏感度的數(shù)值，計(jì)算由該操縱器的調(diào)整所引起的遠(yuǎn)心度變化；以及

從該起始值以及在該開始時(shí)間與決定時(shí)間之間所影響的遠(yuǎn)心度變化來決定該決定時(shí)間的遠(yuǎn)心度值。

8.如權(quán)利要求7所述的投射曝光方法，其特征在于通過在啟動(dòng)時(shí)或重新調(diào)整后測(cè)量遠(yuǎn)心度來決定該起始值。

9.如權(quán)利要求1或2所述的投射曝光方法，其特征在于通過致動(dòng)至少一個(gè)專用遠(yuǎn)心度操縱器來改變?cè)撏渡溏R頭的遠(yuǎn)心度。